低温高压快速生长纳米晶硅薄膜中氢的作用
저온고압쾌속생장납미정규박막중경적작용
The effect of hydrogen on in nano-crystalline thin films prepared at with low temperature and high pressure and fast growth
  • 万方数据
    功能材料 공능재료
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
    2008年 11期 1839-1842 ,共4页

    邱胜桦%陈城钊%刘翠青%吴燕丹%李平%林璇英%黄翀%余楚迎

    구성화%진성쇠%류취청%오연단%리평%림선영%황충%여초영

    纳米晶硅薄膜%氢稀释%晶化率%RF-PECVD 納米晶硅薄膜%氫稀釋%晶化率%RF-PECVD
    납미정규박막%경희석%정화솔%RF-PECVD
    以SiH4/H2为气源,用PECVD沉积技术,在低温(200℃)、高压下(230Pa)下制备出优质纳米晶硅薄膜.研究氢在高速生长纳米晶硅薄膜材料中的作用.实验表明,氢对纳米晶硅薄膜的高速生长起到非常关键的作用.随着氢稀释率由95%提高至99%,薄膜的晶化率由30%增大到70%,晶粒尺寸由3.0nm增大至6.0nm,而沉积速率却由0.8nm/s降低至0.3nm/s.
    이SiH4/H2위기원,용PECVD침적기술,재저온(200℃)、고압하(230Pa)하제비출우질납미정규박막.연구경재고속생장납미정규박막재료중적작용.실험표명,경대납미정규박막적고속생장기도비상관건적작용.수착경희석솔유95%제고지99%,박막적정화솔유30%증대도70%,정립척촌유3.0nm증대지6.0nm,이침적속솔각유0.8nm/s강저지0.3nm/s.
    원문보기 원문다운로드 사이트로이동
저자의 최근 논문