微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2004年
11期
43-45
,共3页
仿真%有限状态机%光刻版%电子设计自动化%集成电路
倣真%有限狀態機%光刻版%電子設計自動化%集成電路
방진%유한상태궤%광각판%전자설계자동화%집성전로
采用有限状态机模型来仿真集成电路行业中光刻版图形的处理过程,涵括了层次处理、涨缩处理和反转处理.将不同的处理过程定义为相应的状态,将图形处理要求定义为输入条件触发状态转换.该模型已应用于光刻版数据处理的电子设计自动化软件.
採用有限狀態機模型來倣真集成電路行業中光刻版圖形的處理過程,涵括瞭層次處理、漲縮處理和反轉處理.將不同的處理過程定義為相應的狀態,將圖形處理要求定義為輸入條件觸髮狀態轉換.該模型已應用于光刻版數據處理的電子設計自動化軟件.
채용유한상태궤모형래방진집성전로행업중광각판도형적처리과정,함괄료층차처리、창축처리화반전처리.장불동적처리과정정의위상응적상태,장도형처리요구정의위수입조건촉발상태전환.해모형이응용우광각판수거처리적전자설계자동화연건.
