电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2012年
1期
9-12
,共4页
周宏明%肖来荣%刘芙蓉%李艳芬
週宏明%肖來榮%劉芙蓉%李豔芬
주굉명%초래영%류부용%리염분
锌合金%电镀%光亮镍镀层%外观%成分
鋅閤金%電鍍%光亮鎳鍍層%外觀%成分
자합금%전도%광량얼도층%외관%성분
以新型易切削Zn-Cu-Mg-Al-RE锌合金为基体,电镀得到光亮镍镀层.其工艺流程主要包括化学除油、活化、预镀镍、光亮镀镍和干燥.研究了温度、pH、电流密度、电镀时间等工艺条件对在以硫酸镍、氯化镍、硼酸和光亮剂为主要成分的镀液中所得光亮镍镀层外观的影响.电镀光亮镍的最佳工艺为:0.045～0.050A/cm2,40～45℃,pH=3.9～4.1,10min.在最佳工艺下得到的镀层总厚度约为80 μm,镀层光滑、致密、光泽度好,无针孔、麻点、起泡等缺陷,与基体结合紧密,界面存在ZnNi过渡层.
以新型易切削Zn-Cu-Mg-Al-RE鋅閤金為基體,電鍍得到光亮鎳鍍層.其工藝流程主要包括化學除油、活化、預鍍鎳、光亮鍍鎳和榦燥.研究瞭溫度、pH、電流密度、電鍍時間等工藝條件對在以硫痠鎳、氯化鎳、硼痠和光亮劑為主要成分的鍍液中所得光亮鎳鍍層外觀的影響.電鍍光亮鎳的最佳工藝為:0.045～0.050A/cm2,40～45℃,pH=3.9～4.1,10min.在最佳工藝下得到的鍍層總厚度約為80 μm,鍍層光滑、緻密、光澤度好,無針孔、痳點、起泡等缺陷,與基體結閤緊密,界麵存在ZnNi過渡層.
이신형역절삭Zn-Cu-Mg-Al-RE자합금위기체,전도득도광량얼도층.기공예류정주요포괄화학제유、활화、예도얼、광량도얼화간조.연구료온도、pH、전류밀도、전도시간등공예조건대재이류산얼、록화얼、붕산화광량제위주요성분적도액중소득광량얼도층외관적영향.전도광량얼적최가공예위:0.045～0.050A/cm2,40～45℃,pH=3.9～4.1,10min.재최가공예하득도적도층총후도약위80 μm,도층광활、치밀、광택도호,무침공、마점、기포등결함,여기체결합긴밀,계면존재ZnNi과도층.
