光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2004年
2期
187-190
,共4页
基片温度%离子束溅射%温控技术
基片溫度%離子束濺射%溫控技術
기편온도%리자속천사%온공기술
离子束溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能薄膜材料的重要手段.对于薄膜的制备,基片的温度是一个重要参数.主要从薄膜结构、应力和附着力三个方面总结了基片温度对离子束溅射工艺中薄膜生长的影响,并结合实际情况,介绍了在离子束刻蚀、溅射和磁控溅射镀膜工艺中的一些温度控制方法.在实际操作中,要根据沉淀薄膜的要求和离子束溅射的具体方法及设备,并结合基片本身的结构特点来考虑基片的控温措施及温度范围.
離子束濺射技術以其在製備薄膜中的獨特優點,成為穫得高性能薄膜材料的重要手段.對于薄膜的製備,基片的溫度是一箇重要參數.主要從薄膜結構、應力和附著力三箇方麵總結瞭基片溫度對離子束濺射工藝中薄膜生長的影響,併結閤實際情況,介紹瞭在離子束刻蝕、濺射和磁控濺射鍍膜工藝中的一些溫度控製方法.在實際操作中,要根據沉澱薄膜的要求和離子束濺射的具體方法及設備,併結閤基片本身的結構特點來攷慮基片的控溫措施及溫度範圍.
리자속천사기술이기재제비박막중적독특우점,성위획득고성능박막재료적중요수단.대우박막적제비,기편적온도시일개중요삼수.주요종박막결구、응력화부착력삼개방면총결료기편온도대리자속천사공예중박막생장적영향,병결합실제정황,개소료재리자속각식、천사화자공천사도막공예중적일사온도공제방법.재실제조작중,요근거침정박막적요구화리자속천사적구체방법급설비,병결합기편본신적결구특점래고필기편적공온조시급온도범위.
