应用化学
應用化學
응용화학
CHINESE JOURNAL OF APPLIED CHEMISTRY
2008年
6期
718-721
,共4页
李俊华%张复兴%王剑秋%曾荣英%邓培红%彭运林%陈晓东
李俊華%張複興%王劍鞦%曾榮英%鄧培紅%彭運林%陳曉東
리준화%장복흥%왕검추%증영영%산배홍%팽운림%진효동
碳糊电极%纳米TiO2%阳极溶出法%铟
碳糊電極%納米TiO2%暘極溶齣法%銦
탄호전겁%납미TiO2%양겁용출법%인
采用溶胶-凝胶法制备了纳米TiO2粉末,成功地将其修饰在碳糊电极上,用阳极溶出伏安法考察了修饰电极测量痕量铟的优化条件及其电化学稳定性.结果表明,在pH=5.4的Hac-NaAc缓冲液中,当In3+在纳米TiO2修饰碳糊电极表面富集时间为200s,电位扫描速率控制为200mV/s时,修饰电极在伏安图上能出现1个灵敏的氧化峰,峰电位为-0.832V,利用该峰可以进行痕量铟的检测;峰电流与In3+浓度在1.0×10-11～1.0×10-9mol/L的范围内成良好线关系,相关系数为0.995,检出限为0.125×10-11mol/L;修饰电极稳定性较好,用于实际水样中钢含量的测定,平均回收率为96.16%,结果令人满意.同时循环伏安和交流阻抗实验表明,铟在修饰电极上电化学氧化为不可逆过程,受电荷传质和扩散过程混合控制;该电极过程的平均活化能为72.36kJ/mol.
採用溶膠-凝膠法製備瞭納米TiO2粉末,成功地將其脩飾在碳糊電極上,用暘極溶齣伏安法攷察瞭脩飾電極測量痕量銦的優化條件及其電化學穩定性.結果錶明,在pH=5.4的Hac-NaAc緩遲液中,噹In3+在納米TiO2脩飾碳糊電極錶麵富集時間為200s,電位掃描速率控製為200mV/s時,脩飾電極在伏安圖上能齣現1箇靈敏的氧化峰,峰電位為-0.832V,利用該峰可以進行痕量銦的檢測;峰電流與In3+濃度在1.0×10-11～1.0×10-9mol/L的範圍內成良好線關繫,相關繫數為0.995,檢齣限為0.125×10-11mol/L;脩飾電極穩定性較好,用于實際水樣中鋼含量的測定,平均迴收率為96.16%,結果令人滿意.同時循環伏安和交流阻抗實驗錶明,銦在脩飾電極上電化學氧化為不可逆過程,受電荷傳質和擴散過程混閤控製;該電極過程的平均活化能為72.36kJ/mol.
채용용효-응효법제비료납미TiO2분말,성공지장기수식재탄호전겁상,용양겁용출복안법고찰료수식전겁측량흔량인적우화조건급기전화학은정성.결과표명,재pH=5.4적Hac-NaAc완충액중,당In3+재납미TiO2수식탄호전겁표면부집시간위200s,전위소묘속솔공제위200mV/s시,수식전겁재복안도상능출현1개령민적양화봉,봉전위위-0.832V,이용해봉가이진행흔량인적검측;봉전류여In3+농도재1.0×10-11～1.0×10-9mol/L적범위내성량호선관계,상관계수위0.995,검출한위0.125×10-11mol/L;수식전겁은정성교호,용우실제수양중강함량적측정,평균회수솔위96.16%,결과령인만의.동시순배복안화교류조항실험표명,인재수식전겁상전화학양화위불가역과정,수전하전질화확산과정혼합공제;해전겁과정적평균활화능위72.36kJ/mol.
