材料工程
材料工程
재료공정
JOURNAL OF MATERIALS ENGINEERING
2010年
8期
20-23
,共4页
王学华%陈归%李承勇%杨亮%曹宏%周伟民
王學華%陳歸%李承勇%楊亮%曹宏%週偉民
왕학화%진귀%리승용%양량%조굉%주위민
交流电化学沉积%阳极氧化铝模板%铜纳米线阵列
交流電化學沉積%暘極氧化鋁模闆%銅納米線陣列
교류전화학침적%양겁양화려모판%동납미선진렬
利用二次阳极氧化的方法制备孔高度有序的阳极氧化铝(AAO)为模板,采用交流电化学沉积方法,在AAO模板孔道内制备Cu纳米线.采用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线衍射仪(XRD)对Cu纳米线的形貌、晶体结构进行研究.结果表明:模板的孔径均匀,孔道平直.Cu纳米线均匀分布在AAO模板纳米孔隙中,直径均一,并沿Cu(111)晶面择优生长;AAO模板孔道生长铜纳米线不光滑,成凹凸状,并对此沉积机理进行探讨.
利用二次暘極氧化的方法製備孔高度有序的暘極氧化鋁(AAO)為模闆,採用交流電化學沉積方法,在AAO模闆孔道內製備Cu納米線.採用掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)和X射線衍射儀(XRD)對Cu納米線的形貌、晶體結構進行研究.結果錶明:模闆的孔徑均勻,孔道平直.Cu納米線均勻分佈在AAO模闆納米孔隙中,直徑均一,併沿Cu(111)晶麵擇優生長;AAO模闆孔道生長銅納米線不光滑,成凹凸狀,併對此沉積機理進行探討.
이용이차양겁양화적방법제비공고도유서적양겁양화려(AAO)위모판,채용교류전화학침적방법,재AAO모판공도내제비Cu납미선.채용소묘전자현미경(SEM)、투사전자현미경(TEM)화X사선연사의(XRD)대Cu납미선적형모、정체결구진행연구.결과표명:모판적공경균균,공도평직.Cu납미선균균분포재AAO모판납미공극중,직경균일,병연Cu(111)정면택우생장;AAO모판공도생장동납미선불광활,성요철상,병대차침적궤리진행탐토.
