CAJ | 학술논문

用Vogl提出的sp3s*紧束缚模型来研究碳化硅/纳米硅(SiC/nc-Si)多层薄膜的能带结构与其光致发光谱的关系,并设计出SiC/nc-Si多层薄膜最佳结构为{Si}1{SiC}8,即碳化硅层的厚度是纳米硅层厚度的8倍时的超晶格结构蓝光发射的效率最高.在等离子体增强化学气相沉积系统中,通过控制进入反应室的气体种类逐层沉积含氢非晶SiCx:H(a-SiCx:H)和非晶Si:H(a-Si:H)薄膜,然后经过高温热退火处理,成功制备出了晶化纳米SiC/nc-Si(多晶SiC和纳米Si)多层薄膜.利用截面透射电子显微镜技术分析了a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的结构特性,表明制得的超晶格结构稍微偏离设计,它的结构为{Si}1{SiC}5.最后对晶化样品的光致发光谱进行研究,详细分析了各个光致发光峰的物理本质.
용Vogl제출적sp3s*긴속박모형래연구탄화규/납미규(SiC/nc-Si)다층박막적능대결구여기광치발광보적관계,병설계출SiC/nc-Si다층박막최가결구위{Si}1{SiC}8,즉탄화규층적후도시납미규층후도적8배시적초정격결구람광발사적효솔최고.재등리자체증강화학기상침적계통중,통과공제진입반응실적기체충류축층침적함경비정SiCx:H(a-SiCx:H)화비정Si:H(a-Si:H)박막,연후경과고온열퇴화처리,성공제비출료정화납미SiC/nc-Si(다정SiC화납미Si)다층박막.이용절면투사전자현미경기술분석료a-SiCx:H/nc-Si:H다층박막적결구특성,표명제득적초정격결구초미편리설계,타적결구위{Si}1{SiC}5.최후대정화양품적광치발광보진행연구,상세분석료각개광치발광봉적물리본질.