材料科学与工程学报
材料科學與工程學報
재료과학여공정학보
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
2003年
4期
494-497
,共4页
季振国%杨成兴%刘坤%叶志镇
季振國%楊成興%劉坤%葉誌鎮
계진국%양성흥%류곤%협지진
薄膜%雾化裂解%热场%膜厚均匀性
薄膜%霧化裂解%熱場%膜厚均勻性
박막%무화렬해%열장%막후균균성
本文利用计算机程序简单模拟了圆盘状加热器和圆筒状加热器的热场分布,研究了热场对雾化裂解CVD法生长的半导体薄膜厚度均匀性的影响,并采用雾化裂解CVD技术制备了高度c轴取向的ZnO薄膜.实验结果表明利用圆筒形加热器及对衬底位置的控制可以在较小的加热器内获得相对尺寸大、厚度均匀性较好ZnO薄膜.
本文利用計算機程序簡單模擬瞭圓盤狀加熱器和圓筒狀加熱器的熱場分佈,研究瞭熱場對霧化裂解CVD法生長的半導體薄膜厚度均勻性的影響,併採用霧化裂解CVD技術製備瞭高度c軸取嚮的ZnO薄膜.實驗結果錶明利用圓筒形加熱器及對襯底位置的控製可以在較小的加熱器內穫得相對呎吋大、厚度均勻性較好ZnO薄膜.
본문이용계산궤정서간단모의료원반상가열기화원통상가열기적열장분포,연구료열장대무화렬해CVD법생장적반도체박막후도균균성적영향,병채용무화렬해CVD기술제비료고도c축취향적ZnO박막.실험결과표명이용원통형가열기급대츤저위치적공제가이재교소적가열기내획득상대척촌대、후도균균성교호ZnO박막.
