退火温度对低温生长MgxZn1-xO薄膜光学性质的影响
퇴화온도대저온생장MgxZn1-xO박막광학성질적영향
Effect of annealing on optical properties of MgxZn1- xO thin films deposited at low temperature
  • 万方数据
    物理学报 물이학보

    2006年 1期 437-440 ,共4页

    张锡健%马洪磊%王卿璞%马瑾%宗福建%肖洪地%计峰

    장석건%마홍뢰%왕경박%마근%종복건%초홍지%계봉

    MgxZn1-xO薄膜%射频磁控溅射%退火 MgxZn1-xO薄膜%射頻磁控濺射%退火
    MgxZn1-xO박막%사빈자공천사%퇴화
    用射频磁控溅射法在80℃衬底温度下制备出MgxZn1-xO(x=0.16)薄膜,用X射线衍射(XRD)、光致发光(PL)和透射谱研究了退火温度对MgxZn1-xO薄膜结构和光学性质的影响.测量结果显示,MgxZn1-xO薄膜为单相六角纤锌矿结构,并且具有沿c轴的择优取向;随着退火温度的升高,(002)XRD峰强度、平均晶粒尺寸和紫外PL峰强度增大,(002)XRD峰半高宽(FWHM)减小.结果证明,用射频磁控溅射法通过适当控制退火温度可得到高质量MgxZn1-xO薄膜.
    용사빈자공천사법재80℃츤저온도하제비출MgxZn1-xO(x=0.16)박막,용X사선연사(XRD)、광치발광(PL)화투사보연구료퇴화온도대MgxZn1-xO박막결구화광학성질적영향.측량결과현시,MgxZn1-xO박막위단상륙각섬자광결구,병차구유연c축적택우취향;수착퇴화온도적승고,(002)XRD봉강도、평균정립척촌화자외PL봉강도증대,(002)XRD봉반고관(FWHM)감소.결과증명,용사빈자공천사법통과괄당공제퇴화온도가득도고질량MgxZn1-xO박막.
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