光学仪器
光學儀器
광학의기
OPTICAL INSTRUMENTS
2002年
4期
34-38
,共5页
陈克坚%杨爱龄%江晓清
陳剋堅%楊愛齡%江曉清
진극견%양애령%강효청
光吸收%光生载流子%折射率变化,光控光开关
光吸收%光生載流子%摺射率變化,光控光開關
광흡수%광생재류자%절사솔변화,광공광개관
以半导体矩形波导材料为例,提出了正在研究中的全内反射型光控光开关的光注入及光生载流子对折射率影响的分析模型.得出在控制光照射方向上半导体材料的折射率随控制光强度变化而变化的分布情况.并分别得到了1.55μm和1.31μm通讯波长的光控光开关的控制光(0.8μm)强度阈门.
以半導體矩形波導材料為例,提齣瞭正在研究中的全內反射型光控光開關的光註入及光生載流子對摺射率影響的分析模型.得齣在控製光照射方嚮上半導體材料的摺射率隨控製光彊度變化而變化的分佈情況.併分彆得到瞭1.55μm和1.31μm通訊波長的光控光開關的控製光(0.8μm)彊度閾門.
이반도체구형파도재료위례,제출료정재연구중적전내반사형광공광개관적광주입급광생재류자대절사솔영향적분석모형.득출재공제광조사방향상반도체재료적절사솔수공제광강도변화이변화적분포정황.병분별득도료1.55μm화1.31μm통신파장적광공광개관적공제광(0.8μm)강도역문.
