微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2008年
4期
231-234
,共4页
纳米光纤探针%近场光学%显微镜%腐蚀法%温度
納米光纖探針%近場光學%顯微鏡%腐蝕法%溫度
납미광섬탐침%근장광학%현미경%부식법%온도
通过改变温度,用腐蚀的方法制备出用于近场光学显微镜的光纤探针.通过控制光纤在不同温度的腐蚀液中腐蚀的时间,制备出多种形貌的光纤探针,所制作探针的锥形过渡区短而锥角大.该法具有重复性高、探针形貌可控、操作方便、实验费用低廉、制备的探针表面光滑等优点,利用该方法成功地制备出针尖尺寸50～300 nm、针尖锥角在40°～74°可调的光纤探针.将制备的探针用于扫描全息光栅(500线/mm),结果在40 min范围内扫描有20个周期,与全息光栅的标定结果相符.
通過改變溫度,用腐蝕的方法製備齣用于近場光學顯微鏡的光纖探針.通過控製光纖在不同溫度的腐蝕液中腐蝕的時間,製備齣多種形貌的光纖探針,所製作探針的錐形過渡區短而錐角大.該法具有重複性高、探針形貌可控、操作方便、實驗費用低廉、製備的探針錶麵光滑等優點,利用該方法成功地製備齣針尖呎吋50～300 nm、針尖錐角在40°～74°可調的光纖探針.將製備的探針用于掃描全息光柵(500線/mm),結果在40 min範圍內掃描有20箇週期,與全息光柵的標定結果相符.
통과개변온도,용부식적방법제비출용우근장광학현미경적광섬탐침.통과공제광섬재불동온도적부식액중부식적시간,제비출다충형모적광섬탐침,소제작탐침적추형과도구단이추각대.해법구유중복성고、탐침형모가공、조작방편、실험비용저렴、제비적탐침표면광활등우점,이용해방법성공지제비출침첨척촌50～300 nm、침첨추각재40°～74°가조적광섬탐침.장제비적탐침용우소묘전식광책(500선/mm),결과재40 min범위내소묘유20개주기,여전식광책적표정결과상부.
