中国激光
中國激光
중국격광
CHINESE JOURNAL OF LASERS
2007年
9期
1282-1286
,共5页
杨义发%龙华%杨光%戴能利%郑启光%陆培祥
楊義髮%龍華%楊光%戴能利%鄭啟光%陸培祥
양의발%룡화%양광%대능리%정계광%륙배상
薄膜%ZnO薄膜%飞秒激光沉积%纳米晶结构
薄膜%ZnO薄膜%飛秒激光沉積%納米晶結構
박막%ZnO박막%비초격광침적%납미정결구
通过飞秒脉冲激光(50 fs,800 nm,1 kHz,2 mJ)沉积技术在n型Si(100)单晶基片上制备了ZnO薄膜.详细研究了基片温度变化以及退火处理对ZnO薄膜的结构、表面形貌及光学性质的影响.X射线衍射(XRD)结果表明,不同温度下(20～350℃)生长的ZnO薄膜具有纤锌矿结构,并且呈c轴择优取向;当基片温度为80℃时,薄膜沿(002)晶面高度择优生长;当基片温度为500℃时薄膜沿(103)晶面择优生长,场发射扫描电子显微镜(FEEM)结果表明薄膜呈纳米晶结构,并观察到了ZnO的六方结构.进一步通过透射光谱的测量讨论了基片温度及退火处理对ZnO薄膜光学透射率的影响,结果表明退火后薄膜的透射率增大.
通過飛秒脈遲激光(50 fs,800 nm,1 kHz,2 mJ)沉積技術在n型Si(100)單晶基片上製備瞭ZnO薄膜.詳細研究瞭基片溫度變化以及退火處理對ZnO薄膜的結構、錶麵形貌及光學性質的影響.X射線衍射(XRD)結果錶明,不同溫度下(20～350℃)生長的ZnO薄膜具有纖鋅礦結構,併且呈c軸擇優取嚮;噹基片溫度為80℃時,薄膜沿(002)晶麵高度擇優生長;噹基片溫度為500℃時薄膜沿(103)晶麵擇優生長,場髮射掃描電子顯微鏡(FEEM)結果錶明薄膜呈納米晶結構,併觀察到瞭ZnO的六方結構.進一步通過透射光譜的測量討論瞭基片溫度及退火處理對ZnO薄膜光學透射率的影響,結果錶明退火後薄膜的透射率增大.
통과비초맥충격광(50 fs,800 nm,1 kHz,2 mJ)침적기술재n형Si(100)단정기편상제비료ZnO박막.상세연구료기편온도변화이급퇴화처리대ZnO박막적결구、표면형모급광학성질적영향.X사선연사(XRD)결과표명,불동온도하(20～350℃)생장적ZnO박막구유섬자광결구,병차정c축택우취향;당기편온도위80℃시,박막연(002)정면고도택우생장;당기편온도위500℃시박막연(103)정면택우생장,장발사소묘전자현미경(FEEM)결과표명박막정납미정결구,병관찰도료ZnO적륙방결구.진일보통과투사광보적측량토론료기편온도급퇴화처리대ZnO박막광학투사솔적영향,결과표명퇴화후박막적투사솔증대.
