武汉工程大学学报
武漢工程大學學報
무한공정대학학보
JOURNAL OF WUHAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY
2009年
1期
65-68
,共4页
吴振辉%马志斌%谭必松%郑先锋%汪建华
吳振輝%馬誌斌%譚必鬆%鄭先鋒%汪建華
오진휘%마지빈%담필송%정선봉%왕건화
氧等离子体%CVD金刚石膜%刻蚀机理
氧等離子體%CVD金剛石膜%刻蝕機理
양등리자체%CVD금강석막%각식궤리
分别采用直流辉光、微波和电子回旋共振3种氧等离子体对CVD金刚石膜表面进行了刻蚀.利用扫描电子显微镜对三种等离子体刻蚀后金刚石膜表面的形貌进行了观察分析.通过对刻蚀后形貌差异的比较,探讨了它们各自的刻蚀机理,并从等离子体鞘层理论出发建立了刻蚀模型.
分彆採用直流輝光、微波和電子迴鏇共振3種氧等離子體對CVD金剛石膜錶麵進行瞭刻蝕.利用掃描電子顯微鏡對三種等離子體刻蝕後金剛石膜錶麵的形貌進行瞭觀察分析.通過對刻蝕後形貌差異的比較,探討瞭它們各自的刻蝕機理,併從等離子體鞘層理論齣髮建立瞭刻蝕模型.
분별채용직류휘광、미파화전자회선공진3충양등리자체대CVD금강석막표면진행료각식.이용소묘전자현미경대삼충등리자체각식후금강석막표면적형모진행료관찰분석.통과대각식후형모차이적비교,탐토료타문각자적각식궤리,병종등리자체초층이론출발건립료각식모형.
