电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2011年
12期
9-12
,共4页
石英光纤%镍-磷-硼合金%电镀镍%响应面法
石英光纖%鎳-燐-硼閤金%電鍍鎳%響應麵法
석영광섬%얼-린-붕합금%전도얼%향응면법
采用响应面法对石英光纤表面Ni-P-B预镀层上电镀厚镍进行了研究.建立了以六水合硫酸镍质量浓度、十二烷基硫酸钠质量浓度、氧化镧质量浓度和电流密度为因变量,以镍沉积速率为响应值的二次多项式模型,其预测值与实验值吻合度较好.在六水合硫酸镍质量浓度为220 g/L,十二烷基硫酸钠质量浓度为0.08 g/L,氧化镧质量浓度为0.9 g/L和电流密度为1.0 A/dm2的条件下,获得最大镍沉积速率为24.43 μm/h;在六水合硫酸镍质量浓度为180 g/L,十二烷基硫酸钠质量浓度为0.08 g/L,氧化镧质量浓度为0.9 g/L和电流密度为0.8 A/dm2的条件下,所得镍镀层的质量最好,其颗粒均匀细小,致密度高,具有良好的导电和焊接性能.
採用響應麵法對石英光纖錶麵Ni-P-B預鍍層上電鍍厚鎳進行瞭研究.建立瞭以六水閤硫痠鎳質量濃度、十二烷基硫痠鈉質量濃度、氧化鑭質量濃度和電流密度為因變量,以鎳沉積速率為響應值的二次多項式模型,其預測值與實驗值吻閤度較好.在六水閤硫痠鎳質量濃度為220 g/L,十二烷基硫痠鈉質量濃度為0.08 g/L,氧化鑭質量濃度為0.9 g/L和電流密度為1.0 A/dm2的條件下,穫得最大鎳沉積速率為24.43 μm/h;在六水閤硫痠鎳質量濃度為180 g/L,十二烷基硫痠鈉質量濃度為0.08 g/L,氧化鑭質量濃度為0.9 g/L和電流密度為0.8 A/dm2的條件下,所得鎳鍍層的質量最好,其顆粒均勻細小,緻密度高,具有良好的導電和銲接性能.
채용향응면법대석영광섬표면Ni-P-B예도층상전도후얼진행료연구.건립료이륙수합류산얼질량농도、십이완기류산납질량농도、양화란질량농도화전류밀도위인변량,이얼침적속솔위향응치적이차다항식모형,기예측치여실험치문합도교호.재륙수합류산얼질량농도위220 g/L,십이완기류산납질량농도위0.08 g/L,양화란질량농도위0.9 g/L화전류밀도위1.0 A/dm2적조건하,획득최대얼침적속솔위24.43 μm/h;재륙수합류산얼질량농도위180 g/L,십이완기류산납질량농도위0.08 g/L,양화란질량농도위0.9 g/L화전류밀도위0.8 A/dm2적조건하,소득얼도층적질량최호,기과립균균세소,치밀도고,구유량호적도전화한접성능.
