光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2010年
11期
1961-1966
,共6页
氟化物材料%157nm%高反膜%增透膜
氟化物材料%157nm%高反膜%增透膜
불화물재료%157nm%고반막%증투막
为了研制低损耗、高性能的157 nm薄膜,研究了常用的六种宽带隙氟化物薄膜材料.制备和研究了六种氟化物单层膜,并以不同高低折射率材料对,设计制备了157nm高反膜和增透膜;讨论和比较了不同氟化物材料对所组成的高反膜和增透膜的反射率、透射率、光学损耗等特性.结果表明,采用NdF3/AlF3 材料对设计制备的157nm高反膜的透过率为1.7%,反射率接近93%,散射损耗为2.46%,已经与吸收损耗相当;以AlF3/LaF3材料对设计制备的157nm增透膜的剩余反射率低于0.17%.
為瞭研製低損耗、高性能的157 nm薄膜,研究瞭常用的六種寬帶隙氟化物薄膜材料.製備和研究瞭六種氟化物單層膜,併以不同高低摺射率材料對,設計製備瞭157nm高反膜和增透膜;討論和比較瞭不同氟化物材料對所組成的高反膜和增透膜的反射率、透射率、光學損耗等特性.結果錶明,採用NdF3/AlF3 材料對設計製備的157nm高反膜的透過率為1.7%,反射率接近93%,散射損耗為2.46%,已經與吸收損耗相噹;以AlF3/LaF3材料對設計製備的157nm增透膜的剩餘反射率低于0.17%.
위료연제저손모、고성능적157 nm박막,연구료상용적륙충관대극불화물박막재료.제비화연구료륙충불화물단층막,병이불동고저절사솔재료대,설계제비료157nm고반막화증투막;토론화비교료불동불화물재료대소조성적고반막화증투막적반사솔、투사솔、광학손모등특성.결과표명,채용NdF3/AlF3 재료대설계제비적157nm고반막적투과솔위1.7%,반사솔접근93%,산사손모위2.46%,이경여흡수손모상당;이AlF3/LaF3재료대설계제비적157nm증투막적잉여반사솔저우0.17%.
