电镀与环保
電鍍與環保
전도여배보
ELECTROPLATING & POLLUTION CONTROL
2012年
4期
7-9
,共3页
表面粗糙度%镀锌层%电流密度%镀液温度%镀液pH值
錶麵粗糙度%鍍鋅層%電流密度%鍍液溫度%鍍液pH值
표면조조도%도자층%전류밀도%도액온도%도액pH치
采用不含添加剂的氧化物镀液电沉积锌层,探讨了电流密度、镀液温度和镀液pH值对镀层表面粗糙度的影响规律,并优选出最佳的工艺参数.结果表明:在电流密度1A/dm2,镀液温度50℃,镀液pH值5.5的条件下,所得镀层的表面粗糙度最低,约为1.267 μm.
採用不含添加劑的氧化物鍍液電沉積鋅層,探討瞭電流密度、鍍液溫度和鍍液pH值對鍍層錶麵粗糙度的影響規律,併優選齣最佳的工藝參數.結果錶明:在電流密度1A/dm2,鍍液溫度50℃,鍍液pH值5.5的條件下,所得鍍層的錶麵粗糙度最低,約為1.267 μm.
채용불함첨가제적양화물도액전침적자층,탐토료전류밀도、도액온도화도액pH치대도층표면조조도적영향규률,병우선출최가적공예삼수.결과표명:재전류밀도1A/dm2,도액온도50℃,도액pH치5.5적조건하,소득도층적표면조조도최저,약위1.267 μm.
