化学工程与装备
化學工程與裝備
화학공정여장비
CHEMICAL ENGINEERING & EQUIPMENT
2009年
2期
12-15
,共4页
李爱国%孟祥省%周留柱%孔祥和
李愛國%孟祥省%週留柱%孔祥和
리애국%맹상성%주류주%공상화
基质辅助激光解吸电离%电离机制%吡啶羧酸%密度泛函分子轨道计算
基質輔助激光解吸電離%電離機製%吡啶羧痠%密度汎函分子軌道計算
기질보조격광해흡전리%전리궤제%필정최산%밀도범함분자궤도계산
吡啶羧酸是基质辅助激光解吸电离中最有效的基质之一,本文采用B3LYP密度泛函计算了它的一些热化学参数,计算结果和已有的实验数据获得了较好的一致.根据吡啶羧酸气相时的反应焓的变化,推测吡啶羧酸离子的形成一部分是处于固相的分子通过光热机制或能量浴形成,另一部分是在同相中形成的离子在进入体利之后通过次级离子分子反应形成.
吡啶羧痠是基質輔助激光解吸電離中最有效的基質之一,本文採用B3LYP密度汎函計算瞭它的一些熱化學參數,計算結果和已有的實驗數據穫得瞭較好的一緻.根據吡啶羧痠氣相時的反應焓的變化,推測吡啶羧痠離子的形成一部分是處于固相的分子通過光熱機製或能量浴形成,另一部分是在同相中形成的離子在進入體利之後通過次級離子分子反應形成.
필정최산시기질보조격광해흡전리중최유효적기질지일,본문채용B3LYP밀도범함계산료타적일사열화학삼수,계산결과화이유적실험수거획득료교호적일치.근거필정최산기상시적반응함적변화,추측필정최산리자적형성일부분시처우고상적분자통과광열궤제혹능량욕형성,령일부분시재동상중형성적리자재진입체리지후통과차급리자분자반응형성.
