中国激光
中國激光
중국격광
CHINESE JOURNAL OF LASERS
2008年
10期
1595-1599
,共5页
许程%董洪成%肖祁陵%麻健勇%晋云霞%邵建达
許程%董洪成%肖祁陵%痳健勇%晉雲霞%邵建達
허정%동홍성%초기릉%마건용%진운하%소건체
薄膜%激光损伤阈值%吸收%退火
薄膜%激光損傷閾值%吸收%退火
박막%격광손상역치%흡수%퇴화
采用电子束蒸发(EBE)和离子柬溅射(IBS)制备了不同的Ta2O5薄膜,同时对电子束蒸发制备的薄膜进行了退火处理.研究了制备的Ta2O5薄膜的光学性能、激光损伤阈值(LIDT)、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和杂质含量.结果表明,退火可使电子束蒸发制备的薄膜的光学性能得到改善,接近离子柬溅射的薄膜的光学性能.电子束蒸发制备的薄膜的损伤阈值较低的主要原因在于吸收大,微缺陷密度和杂质含量高,而与薄膜的散射和粗糙度关系不大.退火后薄膜的吸收和微缺陷密度都明显降低,损伤阈值得到提高.退火后的薄膜损伤阈值仍然低于溅射得到的薄膜损伤阈值是因为退火并不能降低膜内的杂质含量,因此选用高纯度的蒸发膜料和减少电子柬蒸发过程中的污染有可能进一步提高薄膜的损伤阈值.
採用電子束蒸髮(EBE)和離子柬濺射(IBS)製備瞭不同的Ta2O5薄膜,同時對電子束蒸髮製備的薄膜進行瞭退火處理.研究瞭製備的Ta2O5薄膜的光學性能、激光損傷閾值(LIDT)、吸收、散射、粗糙度、微缺陷密度和雜質含量.結果錶明,退火可使電子束蒸髮製備的薄膜的光學性能得到改善,接近離子柬濺射的薄膜的光學性能.電子束蒸髮製備的薄膜的損傷閾值較低的主要原因在于吸收大,微缺陷密度和雜質含量高,而與薄膜的散射和粗糙度關繫不大.退火後薄膜的吸收和微缺陷密度都明顯降低,損傷閾值得到提高.退火後的薄膜損傷閾值仍然低于濺射得到的薄膜損傷閾值是因為退火併不能降低膜內的雜質含量,因此選用高純度的蒸髮膜料和減少電子柬蒸髮過程中的汙染有可能進一步提高薄膜的損傷閾值.
채용전자속증발(EBE)화리자간천사(IBS)제비료불동적Ta2O5박막,동시대전자속증발제비적박막진행료퇴화처리.연구료제비적Ta2O5박막적광학성능、격광손상역치(LIDT)、흡수、산사、조조도、미결함밀도화잡질함량.결과표명,퇴화가사전자속증발제비적박막적광학성능득도개선,접근리자간천사적박막적광학성능.전자속증발제비적박막적손상역치교저적주요원인재우흡수대,미결함밀도화잡질함량고,이여박막적산사화조조도관계불대.퇴화후박막적흡수화미결함밀도도명현강저,손상역치득도제고.퇴화후적박막손상역치잉연저우천사득도적박막손상역치시인위퇴화병불능강저막내적잡질함량,인차선용고순도적증발막료화감소전자간증발과정중적오염유가능진일보제고박막적손상역치.
