真空电子技术
真空電子技術
진공전자기술
VACUUM ELECTRONICS
2007年
5期
41-43,47
,共4页
Al2O3陶瓷%金属化%真空溅射
Al2O3陶瓷%金屬化%真空濺射
Al2O3도자%금속화%진공천사
综述了Al2O3陶瓷金属化技术的国内外研究现状与进展,简要介绍了目前主要应用的几种金属化方法,并着重分析了真空溅射镀膜金属化技术中薄膜材料、膜层厚度以及工艺参数对金属化质量的影响.
綜述瞭Al2O3陶瓷金屬化技術的國內外研究現狀與進展,簡要介紹瞭目前主要應用的幾種金屬化方法,併著重分析瞭真空濺射鍍膜金屬化技術中薄膜材料、膜層厚度以及工藝參數對金屬化質量的影響.
종술료Al2O3도자금속화기술적국내외연구현상여진전,간요개소료목전주요응용적궤충금속화방법,병착중분석료진공천사도막금속화기술중박막재료、막층후도이급공예삼수대금속화질량적영향.
