物理化学学报
物理化學學報
물이화학학보
ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA
2006年
9期
1132-1136
,共5页
李德宝%齐会杰%李文怀%孙予罕%钟炳
李德寶%齊會傑%李文懷%孫予罕%鐘炳
리덕보%제회걸%리문부%손여한%종병
低碳混合醇%ADM催化剂%改性%Ni
低碳混閤醇%ADM催化劑%改性%Ni
저탄혼합순%ADM최화제%개성%Ni
制备了不同含量Ni改性的K2CO3/MoS2(ADM)低碳醇催化剂,通过XRD、BET、XPS等表征技术考察了模型催化剂的表面结构和电子特征,结果表明在ADM催化剂中Ni助剂主要以Ni-Mo-S配位结构和独立的NiSx两种形式存在.在nNi/nMo＜1/3时,Ni-Mo-S配位结构为主要存在形式,催化剂表面Ni含量低于体相.随着Ni含量的提高,Ni与MoS2配位逐渐饱和,NiSx独立相逐步形成并导致Ni的表面富集,同时Ni的富集导致ADM催化剂形成富含S和K的表面化学环境.作为供电子助剂,Ni-Mo-S结构对应于强的电子作用,而独立NiSx与MoS2之间的电子作用较弱.随Ni含量的增加Ni与MoS2之间的电子作用呈现由强变弱的规律,反映了Ni与MoS2配位饱和与独立NiSx相的形成过程.
製備瞭不同含量Ni改性的K2CO3/MoS2(ADM)低碳醇催化劑,通過XRD、BET、XPS等錶徵技術攷察瞭模型催化劑的錶麵結構和電子特徵,結果錶明在ADM催化劑中Ni助劑主要以Ni-Mo-S配位結構和獨立的NiSx兩種形式存在.在nNi/nMo＜1/3時,Ni-Mo-S配位結構為主要存在形式,催化劑錶麵Ni含量低于體相.隨著Ni含量的提高,Ni與MoS2配位逐漸飽和,NiSx獨立相逐步形成併導緻Ni的錶麵富集,同時Ni的富集導緻ADM催化劑形成富含S和K的錶麵化學環境.作為供電子助劑,Ni-Mo-S結構對應于彊的電子作用,而獨立NiSx與MoS2之間的電子作用較弱.隨Ni含量的增加Ni與MoS2之間的電子作用呈現由彊變弱的規律,反映瞭Ni與MoS2配位飽和與獨立NiSx相的形成過程.
제비료불동함량Ni개성적K2CO3/MoS2(ADM)저탄순최화제,통과XRD、BET、XPS등표정기술고찰료모형최화제적표면결구화전자특정,결과표명재ADM최화제중Ni조제주요이Ni-Mo-S배위결구화독립적NiSx량충형식존재.재nNi/nMo＜1/3시,Ni-Mo-S배위결구위주요존재형식,최화제표면Ni함량저우체상.수착Ni함량적제고,Ni여MoS2배위축점포화,NiSx독립상축보형성병도치Ni적표면부집,동시Ni적부집도치ADM최화제형성부함S화K적표면화학배경.작위공전자조제,Ni-Mo-S결구대응우강적전자작용,이독립NiSx여MoS2지간적전자작용교약.수Ni함량적증가Ni여MoS2지간적전자작용정현유강변약적규률,반영료Ni여MoS2배위포화여독립NiSx상적형성과정.
