材料热处理学报
材料熱處理學報
재료열처이학보
TRANSACTIONS OF MATERIALS AND HEAT TREATMENT
2006年
1期
68-70
,共3页
张际亮%郦剑%沃银花%王幼文%甘正浩
張際亮%酈劍%沃銀花%王幼文%甘正浩
장제량%역검%옥은화%왕유문%감정호
铝基%SiOx薄膜%弯曲实验%结合力%机理
鋁基%SiOx薄膜%彎麯實驗%結閤力%機理
려기%SiOx박막%만곡실험%결합력%궤리
应用化学气相沉积(CVD)方法在铝表面形成SiOx陶瓷涂层,通过弯曲实验研究了涂层与基体的结合性能.利用扫描电子显微镜(SEM)观察了弯曲部位的表面形貌,弯曲过程表述为表面凹坑与内部孔洞联合长大,形成长条裂纹状沟槽或突脊,最后裂纹长大直至断裂.研究表明,基底与膜层结合良好,形成高结合力的原因是铝基底与表面SiOx膜层间过渡层中的Al-O与Si-O键合能很高,键合稳定.
應用化學氣相沉積(CVD)方法在鋁錶麵形成SiOx陶瓷塗層,通過彎麯實驗研究瞭塗層與基體的結閤性能.利用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察瞭彎麯部位的錶麵形貌,彎麯過程錶述為錶麵凹坑與內部孔洞聯閤長大,形成長條裂紋狀溝槽或突脊,最後裂紋長大直至斷裂.研究錶明,基底與膜層結閤良好,形成高結閤力的原因是鋁基底與錶麵SiOx膜層間過渡層中的Al-O與Si-O鍵閤能很高,鍵閤穩定.
응용화학기상침적(CVD)방법재려표면형성SiOx도자도층,통과만곡실험연구료도층여기체적결합성능.이용소묘전자현미경(SEM)관찰료만곡부위적표면형모,만곡과정표술위표면요갱여내부공동연합장대,형성장조렬문상구조혹돌척,최후렬문장대직지단렬.연구표명,기저여막층결합량호,형성고결합력적원인시려기저여표면SiOx막층간과도층중적Al-O여Si-O건합능흔고,건합은정.
