半导体光电
半導體光電
반도체광전
SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS
2000年
6期
405-409
,共5页
王学礼%李根乾%赵宏%谭玉山
王學禮%李根乾%趙宏%譚玉山
왕학례%리근건%조굉%담옥산
投影莫尔%三维测量%变光源%相移
投影莫爾%三維測量%變光源%相移
투영막이%삼유측량%변광원%상이
projection Moiré%3D inspection%light variation%phase-shift
设计了一种全新的投影莫尔三维轮廓投影成像测试系统。去除了传统机械式相移结构,首次利用计算机实时控制变光源相移技术,大大提高了系统测试速度。创造性地采用垂直投影,双CCD倾斜成像机构,提高了光场的均匀性和可测物范围。该系统具有测试速度快(全场测量:4~8 s)、测量面积大(最大可为300mm×300 mm)、光强照明均匀等优点,系统测量精度可达40 um。详细分析了系统关键技术,并给出了具体实验结果。结果表明系统的设计原理是成功的,为大面积物体三维轮廓快速高精度测量提供了一种有力的手段。
設計瞭一種全新的投影莫爾三維輪廓投影成像測試繫統。去除瞭傳統機械式相移結構,首次利用計算機實時控製變光源相移技術,大大提高瞭繫統測試速度。創造性地採用垂直投影,雙CCD傾斜成像機構,提高瞭光場的均勻性和可測物範圍。該繫統具有測試速度快(全場測量:4~8 s)、測量麵積大(最大可為300mm×300 mm)、光彊照明均勻等優點,繫統測量精度可達40 um。詳細分析瞭繫統關鍵技術,併給齣瞭具體實驗結果。結果錶明繫統的設計原理是成功的,為大麵積物體三維輪廓快速高精度測量提供瞭一種有力的手段。
설계료일충전신적투영막이삼유륜곽투영성상측시계통。거제료전통궤계식상이결구,수차이용계산궤실시공제변광원상이기술,대대제고료계통측시속도。창조성지채용수직투영,쌍CCD경사성상궤구,제고료광장적균균성화가측물범위。해계통구유측시속도쾌(전장측량:4~8 s)、측량면적대(최대가위300mm×300 mm)、광강조명균균등우점,계통측량정도가체40 um。상세분석료계통관건기술,병급출료구체실험결과。결과표명계통적설계원리시성공적,위대면적물체삼유륜곽쾌속고정도측량제공료일충유력적수단。
New structure for 3D measurement based on projection Moiréis developed. Instead of using mechanical structure for phase shifting, light variation technique is utilized, which greatly improves the speed to the order of 4~8 seconds. Two CCDs with the structure of vertical projecting and inclined imaging are used to eliminate the reflection and to get better light field. The system can measure large area (300 mm × 300 mm)with the precision of 40 μm. The Experiment shows that themethod is effective and satisfactory.