半导体光电
半導體光電
반도체광전
SEMICONDUCTOR OPTOELECTRONICS
2002年
3期
191-194
,共4页
李红%关锐雄%刘伟平%陆尧胜%郑力明%廖常俊%刘颂豪
李紅%關銳雄%劉偉平%陸堯勝%鄭力明%廖常俊%劉頌豪
리홍%관예웅%류위평%륙요성%정력명%료상준%류송호
光纤光栅%密集波分复用%光栅参数%二次曝光
光纖光柵%密集波分複用%光柵參數%二次曝光
광섬광책%밀집파분복용%광책삼수%이차폭광
分析了用于DWDM系统均匀光纤光栅反射特性与光栅、光刻条件的关系;给出了用于DWDM系统中的光纤光栅的设计原理、方法及确定光栅参数的流程.采用高斯光束和均匀相位模版,用二次曝光技术,有效消除了均匀光纤光栅的反射谱旁瓣,所设计和刻制的光栅完全满足DWDM系统的要求.
分析瞭用于DWDM繫統均勻光纖光柵反射特性與光柵、光刻條件的關繫;給齣瞭用于DWDM繫統中的光纖光柵的設計原理、方法及確定光柵參數的流程.採用高斯光束和均勻相位模版,用二次曝光技術,有效消除瞭均勻光纖光柵的反射譜徬瓣,所設計和刻製的光柵完全滿足DWDM繫統的要求.
분석료용우DWDM계통균균광섬광책반사특성여광책、광각조건적관계;급출료용우DWDM계통중적광섬광책적설계원리、방법급학정광책삼수적류정.채용고사광속화균균상위모판,용이차폭광기술,유효소제료균균광섬광책적반사보방판,소설계화각제적광책완전만족DWDM계통적요구.
