材料导报
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재료도보
MATERIALS REVIEW
2007年
z2期
173-175
,共3页
徐幸梓%王必本%高凤英%张力%曾丁丁
徐倖梓%王必本%高鳳英%張力%曾丁丁
서행재%왕필본%고봉영%장력%증정정
碳尖端%等离子体%化学气相沉积%离子轰击
碳尖耑%等離子體%化學氣相沉積%離子轟擊
탄첨단%등리자체%화학기상침적%리자굉격
用CH4、NH3和H2为反应气体,利用等离子体增强热丝化学气相沉积系统在沉积有碳膜的Si衬底上制备了碳尖端.利用原子力显微镜和显微Raman光谱仪对沉积的碳膜表征的结果表明碳膜是非晶碳膜,并且粗糙不平.用扫描电子显微镜对碳尖端表征的结果表明碳尖端的形貌与偏压电流有关,即随着偏压电流的增大,碳尖端的顶角减小,高度增大.由于在碳尖端形成的过程中,既有离子的沉积又有离子的溅射,结合有关等离子沉积和溅射的理论,建立了碳尖端的形成模型,并根据模型分析了实验结果.
用CH4、NH3和H2為反應氣體,利用等離子體增彊熱絲化學氣相沉積繫統在沉積有碳膜的Si襯底上製備瞭碳尖耑.利用原子力顯微鏡和顯微Raman光譜儀對沉積的碳膜錶徵的結果錶明碳膜是非晶碳膜,併且粗糙不平.用掃描電子顯微鏡對碳尖耑錶徵的結果錶明碳尖耑的形貌與偏壓電流有關,即隨著偏壓電流的增大,碳尖耑的頂角減小,高度增大.由于在碳尖耑形成的過程中,既有離子的沉積又有離子的濺射,結閤有關等離子沉積和濺射的理論,建立瞭碳尖耑的形成模型,併根據模型分析瞭實驗結果.
용CH4、NH3화H2위반응기체,이용등리자체증강열사화학기상침적계통재침적유탄막적Si츤저상제비료탄첨단.이용원자력현미경화현미Raman광보의대침적적탄막표정적결과표명탄막시비정탄막,병차조조불평.용소묘전자현미경대탄첨단표정적결과표명탄첨단적형모여편압전류유관,즉수착편압전류적증대,탄첨단적정각감소,고도증대.유우재탄첨단형성적과정중,기유리자적침적우유리자적천사,결합유관등리자침적화천사적이론,건립료탄첨단적형성모형,병근거모형분석료실험결과.
