人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2004年
2期
159-163
,共5页
李丹%张静%雷牧云%田中卓%潘峰
李丹%張靜%雷牧雲%田中卓%潘峰
리단%장정%뢰목운%전중탁%반봉
Fe-N薄膜%矫顽力%RF磁控溅射
Fe-N薄膜%矯頑力%RF磁控濺射
Fe-N박막%교완력%RF자공천사
用RF磁控溅射方法,在高功率下制备厚度为2μm的薄膜,当N含量在5.9～8.5%原子分数范围内,形成α′+α″相时,4πMs=2.2T,Hc=58.6A/m,可以满足针对高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.用该方法在不同的本底真空度下制备Fe-N薄膜,发现较高真空下比较低真空下制备的Fe-N薄膜磁学性能要好.P=1000W时,较高真空下制备的Fe-N薄膜的矫顽力为34.8A/m,较低真空下制备的Fe-N薄膜的矫顽力为58.6A/m.AFM测试表明,在功率条件相同情况下,较高真空下制备的Fe-N薄膜表面光滑、平整、起伏小、薄膜致密;而较低真空下制备的Fe-N薄膜,表面粗糙、起伏大、薄膜较疏松、不均匀.
用RF磁控濺射方法,在高功率下製備厚度為2μm的薄膜,噹N含量在5.9～8.5%原子分數範圍內,形成α′+α″相時,4πMs=2.2T,Hc=58.6A/m,可以滿足針對高存儲密度的GMR/感應式複閤讀寫磁頭中寫入磁頭的需要.用該方法在不同的本底真空度下製備Fe-N薄膜,髮現較高真空下比較低真空下製備的Fe-N薄膜磁學性能要好.P=1000W時,較高真空下製備的Fe-N薄膜的矯頑力為34.8A/m,較低真空下製備的Fe-N薄膜的矯頑力為58.6A/m.AFM測試錶明,在功率條件相同情況下,較高真空下製備的Fe-N薄膜錶麵光滑、平整、起伏小、薄膜緻密;而較低真空下製備的Fe-N薄膜,錶麵粗糙、起伏大、薄膜較疏鬆、不均勻.
용RF자공천사방법,재고공솔하제비후도위2μm적박막,당N함량재5.9～8.5%원자분수범위내,형성α′+α″상시,4πMs=2.2T,Hc=58.6A/m,가이만족침대고존저밀도적GMR/감응식복합독사자두중사입자두적수요.용해방법재불동적본저진공도하제비Fe-N박막,발현교고진공하비교저진공하제비적Fe-N박막자학성능요호.P=1000W시,교고진공하제비적Fe-N박막적교완력위34.8A/m,교저진공하제비적Fe-N박막적교완력위58.6A/m.AFM측시표명,재공솔조건상동정황하,교고진공하제비적Fe-N박막표면광활、평정、기복소、박막치밀;이교저진공하제비적Fe-N박막,표면조조、기복대、박막교소송、불균균.
