光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2009年
5期
969-974
,共6页
申振峰%高劲松%王笑夷%王彤彤%陈红%郑宣鸣
申振峰%高勁鬆%王笑夷%王彤彤%陳紅%鄭宣鳴
신진봉%고경송%왕소이%왕동동%진홍%정선명
碳化%RB-SiC基底%SiC反射镜%表面改性
碳化%RB-SiC基底%SiC反射鏡%錶麵改性
탄화%RB-SiC기저%SiC반사경%표면개성
为了满足空间用大口径、复杂轻量化结构RB-SiC基底反射镜对高性能表面质量的需求,针对RB-SiC基底的特性,提出了改进表面改性工艺的方法.采用高能量考夫曼离子源辅助,预先对基底进行碳化和加镀C缓冲层,并制备Si改性涂层的方法对RB-SiC基底进行了表面改性.测试结果表明:与单纯霍尔离子源辅助方法相比,该工艺方法制备的Si改性涂层生长得更加致密、均匀,抛光特性良好;改性抛光后表面粗糙度(rms)降低到0.635 nm,达到了S-SiC基底的水平;改性后RB-SiC基底的反射率明显提高,达到了抛光良好的微晶玻璃的水平.结果表明,该工艺方法是提高RB-SiC基底表面改性效果的一种合理有效的方法.
為瞭滿足空間用大口徑、複雜輕量化結構RB-SiC基底反射鏡對高性能錶麵質量的需求,針對RB-SiC基底的特性,提齣瞭改進錶麵改性工藝的方法.採用高能量攷伕曼離子源輔助,預先對基底進行碳化和加鍍C緩遲層,併製備Si改性塗層的方法對RB-SiC基底進行瞭錶麵改性.測試結果錶明:與單純霍爾離子源輔助方法相比,該工藝方法製備的Si改性塗層生長得更加緻密、均勻,拋光特性良好;改性拋光後錶麵粗糙度(rms)降低到0.635 nm,達到瞭S-SiC基底的水平;改性後RB-SiC基底的反射率明顯提高,達到瞭拋光良好的微晶玻璃的水平.結果錶明,該工藝方法是提高RB-SiC基底錶麵改性效果的一種閤理有效的方法.
위료만족공간용대구경、복잡경양화결구RB-SiC기저반사경대고성능표면질량적수구,침대RB-SiC기저적특성,제출료개진표면개성공예적방법.채용고능량고부만리자원보조,예선대기저진행탄화화가도C완충층,병제비Si개성도층적방법대RB-SiC기저진행료표면개성.측시결과표명:여단순곽이리자원보조방법상비,해공예방법제비적Si개성도층생장득경가치밀、균균,포광특성량호;개성포광후표면조조도(rms)강저도0.635 nm,체도료S-SiC기저적수평;개성후RB-SiC기저적반사솔명현제고,체도료포광량호적미정파리적수평.결과표명,해공예방법시제고RB-SiC기저표면개성효과적일충합리유효적방법.
