HgCdTe钝化过程中形成的镶嵌结构及其热处理效应
HgCdTe둔화과정중형성적양감결구급기열처리효응
Mosaic Structure and Heating Treatment of Passivated HgCdTe
  • 万方数据
    半导体学报 반도체학보
    CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
    2005年 1期 62-66 ,共5页

    孙涛%王庆学%陈文桥%梁晋穗%陈兴国%胡晓宁%李言谨

    손도%왕경학%진문교%량진수%진흥국%호효저%리언근

    HgCdTe%CdTe%钝化%二维点阵 HgCdTe%CdTe%鈍化%二維點陣
    HgCdTe%CdTe%둔화%이유점진
    通过高分辨X射线衍射仪中的二维点阵研究了溅射的CdTe介质膜对HgCdTe外延层的影响.发现在高溅射能量下沉积的钝化膜由于应力的作用,HgCdTe晶片出现弯曲及大量镶嵌结构,而这种镶嵌结构可通过合理的热处理工艺消除.
    통과고분변X사선연사의중적이유점진연구료천사적CdTe개질막대HgCdTe외연층적영향.발현재고천사능량하침적적둔화막유우응력적작용,HgCdTe정편출현만곡급대량양감결구,이저충양감결구가통과합리적열처리공예소제.
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