微细加工技术
微細加工技術
미세가공기술
MICROFABRICATION TECHNOLOGY
2008年
2期
28-32
,共5页
刘学璋%王柏春%许向阳%谢圣中%翟海军
劉學璋%王柏春%許嚮暘%謝聖中%翟海軍
류학장%왕백춘%허향양%사골중%적해군
硬盘微晶玻璃基板%化学机械抛光%纳米金刚石%亚纳米级光滑表面
硬盤微晶玻璃基闆%化學機械拋光%納米金剛石%亞納米級光滑錶麵
경반미정파리기판%화학궤계포광%납미금강석%아납미급광활표면
计算机硬盘微晶玻璃基板的微观结构性能与化学成分都不连续,显微硬度非常高(900 kg/mm2～1 000 kg/mm2),难以获得亚纳米级光滑表面.讨论了微晶玻璃基板结构性能、抛光机理、抛光工艺条件等因素对抛光效果的影响.结果表明,硬盘微晶玻璃基板的结晶相颗粒大小、玻璃相与结晶相的比例都会影响抛光表面质量;化学机械抛光引起玻璃相的优先抛除,该作用机理不适宜于微晶玻璃基板抛光.工艺条件中压力对微晶玻璃基板的表面粗糙度影响最大,抛光中需要维持合适的压力.选取合适的抛光条件,最终获得了粗糙度为0.208 nm(AFM:5 μm×5 μm)的光滑表面.
計算機硬盤微晶玻璃基闆的微觀結構性能與化學成分都不連續,顯微硬度非常高(900 kg/mm2～1 000 kg/mm2),難以穫得亞納米級光滑錶麵.討論瞭微晶玻璃基闆結構性能、拋光機理、拋光工藝條件等因素對拋光效果的影響.結果錶明,硬盤微晶玻璃基闆的結晶相顆粒大小、玻璃相與結晶相的比例都會影響拋光錶麵質量;化學機械拋光引起玻璃相的優先拋除,該作用機理不適宜于微晶玻璃基闆拋光.工藝條件中壓力對微晶玻璃基闆的錶麵粗糙度影響最大,拋光中需要維持閤適的壓力.選取閤適的拋光條件,最終穫得瞭粗糙度為0.208 nm(AFM:5 μm×5 μm)的光滑錶麵.
계산궤경반미정파리기판적미관결구성능여화학성분도불련속,현미경도비상고(900 kg/mm2～1 000 kg/mm2),난이획득아납미급광활표면.토론료미정파리기판결구성능、포광궤리、포광공예조건등인소대포광효과적영향.결과표명,경반미정파리기판적결정상과립대소、파리상여결정상적비례도회영향포광표면질량;화학궤계포광인기파리상적우선포제,해작용궤리불괄의우미정파리기판포광.공예조건중압력대미정파리기판적표면조조도영향최대,포광중수요유지합괄적압력.선취합괄적포광조건,최종획득료조조도위0.208 nm(AFM:5 μm×5 μm)적광활표면.
