压电与声光
壓電與聲光
압전여성광
PIEZOELECTRICS & ACOUSTOOPTICS
2009年
5期
718-720,727
,共4页
孙宇澄%李雪冬%周圆苑%朱基亮%肖定全%朱建国
孫宇澄%李雪鼕%週圓苑%硃基亮%肖定全%硃建國
손우징%리설동%주원원%주기량%초정전%주건국
射频磁控溅射%0.95Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.05PbTiO3(PSTT5)%薄膜%快速退火(RTA)
射頻磁控濺射%0.95Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.05PbTiO3(PSTT5)%薄膜%快速退火(RTA)
사빈자공천사%0.95Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.05PbTiO3(PSTT5)%박막%쾌속퇴화(RTA)
采用射频磁控溅射法在LSCO/Pt/Ti/SiO2/Si(100)衬底上制备了 0.95Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.05PbTiO3(PSTT5)铁电薄膜.研究了不同的快速退火(RTA)工艺对PSTT5薄膜的结晶性能和铁电性能的影响.实验结果表明,经两步法快速退火,PSTT5薄膜具有完全钙钛矿结构且呈(220)取向.PSTT5薄膜的铁电性能测试结果也表明,采用两步法RTA处理的PSTT5薄膜具有更好的铁电性能,其剩余极化强度(2Pr)可达25.4 μC/cm2.
採用射頻磁控濺射法在LSCO/Pt/Ti/SiO2/Si(100)襯底上製備瞭 0.95Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.05PbTiO3(PSTT5)鐵電薄膜.研究瞭不同的快速退火(RTA)工藝對PSTT5薄膜的結晶性能和鐵電性能的影響.實驗結果錶明,經兩步法快速退火,PSTT5薄膜具有完全鈣鈦礦結構且呈(220)取嚮.PSTT5薄膜的鐵電性能測試結果也錶明,採用兩步法RTA處理的PSTT5薄膜具有更好的鐵電性能,其剩餘極化彊度(2Pr)可達25.4 μC/cm2.
채용사빈자공천사법재LSCO/Pt/Ti/SiO2/Si(100)츤저상제비료 0.95Pb(Sc0.5Ta0.5)O3-0.05PbTiO3(PSTT5)철전박막.연구료불동적쾌속퇴화(RTA)공예대PSTT5박막적결정성능화철전성능적영향.실험결과표명,경량보법쾌속퇴화,PSTT5박막구유완전개태광결구차정(220)취향.PSTT5박막적철전성능측시결과야표명,채용량보법RTA처리적PSTT5박막구유경호적철전성능,기잉여겁화강도(2Pr)가체25.4 μC/cm2.
