热丝CVD法制备大面积金刚石厚膜
열사CVD법제비대면적금강석후막
Large area diamond thick film deposited by HFCVD
  • 万方数据
    武汉工程大学学报 무한공정대학학보
    JOURNAL OF WUHAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY
    2008年 1期 80-82 ,共3页

    熊军%汪建华%王传新%邢文娟%谢鹏%皮华滨%吴斌

    웅군%왕건화%왕전신%형문연%사붕%피화빈%오빈

    热丝化学气相沉积%金刚石厚膜%质量%纯度 熱絲化學氣相沉積%金剛石厚膜%質量%純度
    열사화학기상침적%금강석후막%질량%순도
    采用热丝化学气相沉积(HFCVD)设备与工艺,在直径为90 mm的钨基体上,以丙酮为碳源,制备了(111)取向的大面积金刚石厚膜,厚膜平均厚度达到1.2 mm.用x-ray衍射、扫描电子显微镜(SEM)和拉曼光谱(Raman)对金刚石厚膜的织构、形貌和成分进行了分析,结果表明所制备的金刚石厚膜质量很好且有较高纯度.
    채용열사화학기상침적(HFCVD)설비여공예,재직경위90 mm적오기체상,이병동위탄원,제비료(111)취향적대면적금강석후막,후막평균후도체도1.2 mm.용x-ray연사、소묘전자현미경(SEM)화랍만광보(Raman)대금강석후막적직구、형모화성분진행료분석,결과표명소제비적금강석후막질량흔호차유교고순도.
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