压电与声光
壓電與聲光
압전여성광
PIEZOELECTRICS & ACOUSTOOPTICS
2006年
6期
627-629
,共3页
刘健敏%夏义本%王林军%阮建锋%苏青峰%史伟民
劉健敏%夏義本%王林軍%阮建鋒%囌青峰%史偉民
류건민%하의본%왕림군%원건봉%소청봉%사위민
自支撑金刚石膜%表面粗糙度%氧化锌薄膜%c轴择优取向
自支撐金剛石膜%錶麵粗糙度%氧化鋅薄膜%c軸擇優取嚮
자지탱금강석막%표면조조도%양화자박막%c축택우취향
采用热丝化学气相沉积(CVD)法制备了自支撑金刚石膜,再通过射频磁控溅射法沉积氧化锌薄膜在自支撑金刚石膜上.通过光学显微镜、扫描电镜(SEM)以及原子力显微镜(AFM)测试自支撑金刚石膜的表面形貌,结果表明,自支撑金刚石膜的成核面非常光滑,粗糙度约为10 nm拉曼光谱显示成核面在1 333 cm-1附近有尖锐的散射峰,与金刚石的sp3键相对应,非金刚石相含量很少;X-射线衍射分析(XRD)显示,沉积在自支撑金刚石膜上的氧化锌薄膜为高度的c轴择优取向生长.
採用熱絲化學氣相沉積(CVD)法製備瞭自支撐金剛石膜,再通過射頻磁控濺射法沉積氧化鋅薄膜在自支撐金剛石膜上.通過光學顯微鏡、掃描電鏡(SEM)以及原子力顯微鏡(AFM)測試自支撐金剛石膜的錶麵形貌,結果錶明,自支撐金剛石膜的成覈麵非常光滑,粗糙度約為10 nm拉曼光譜顯示成覈麵在1 333 cm-1附近有尖銳的散射峰,與金剛石的sp3鍵相對應,非金剛石相含量很少;X-射線衍射分析(XRD)顯示,沉積在自支撐金剛石膜上的氧化鋅薄膜為高度的c軸擇優取嚮生長.
채용열사화학기상침적(CVD)법제비료자지탱금강석막,재통과사빈자공천사법침적양화자박막재자지탱금강석막상.통과광학현미경、소묘전경(SEM)이급원자력현미경(AFM)측시자지탱금강석막적표면형모,결과표명,자지탱금강석막적성핵면비상광활,조조도약위10 nm랍만광보현시성핵면재1 333 cm-1부근유첨예적산사봉,여금강석적sp3건상대응,비금강석상함량흔소;X-사선연사분석(XRD)현시,침적재자지탱금강석막상적양화자박막위고도적c축택우취향생장.
