南京大学学报（自然科学版）
南京大學學報（自然科學版）
남경대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY(NATURAL SCIENCES)
2005年
1期
61-65
,共5页
芮云军%徐骏%梅嘉欣%阳玲%李伟%陈坤基
芮雲軍%徐駿%梅嘉訢%暘玲%李偉%陳坤基
예운군%서준%매가흔%양령%리위%진곤기
氢化非晶硅%微结构%等离子体退火%钝化%去钝化
氫化非晶硅%微結構%等離子體退火%鈍化%去鈍化
경화비정규%미결구%등리자체퇴화%둔화%거둔화
室温下利用氢等离子体退火技术对氢化非晶硅(a-Si:H)薄膜进行处理,通过傅立叶红外、光吸收、拉曼光谱3种测试手段对非晶硅的微结构进行了分析,发现不同的退火时间对a-Si:H的微结构影响很大,氢等离子体在与薄膜的化学反应过程中主要表现为原子氢(H0)与薄膜的反应.化学势很高的H0能将Si-Si弱键转变成Si-Si强键.硅网络结构发生弛豫,使结构由无序向有序转变,从而能够降低晶化温度与退火时间.
室溫下利用氫等離子體退火技術對氫化非晶硅(a-Si:H)薄膜進行處理,通過傅立葉紅外、光吸收、拉曼光譜3種測試手段對非晶硅的微結構進行瞭分析,髮現不同的退火時間對a-Si:H的微結構影響很大,氫等離子體在與薄膜的化學反應過程中主要錶現為原子氫(H0)與薄膜的反應.化學勢很高的H0能將Si-Si弱鍵轉變成Si-Si彊鍵.硅網絡結構髮生弛豫,使結構由無序嚮有序轉變,從而能夠降低晶化溫度與退火時間.
실온하이용경등리자체퇴화기술대경화비정규(a-Si:H)박막진행처리,통과부립협홍외、광흡수、랍만광보3충측시수단대비정규적미결구진행료분석,발현불동적퇴화시간대a-Si:H적미결구영향흔대,경등리자체재여박막적화학반응과정중주요표현위원자경(H0)여박막적반응.화학세흔고적H0능장Si-Si약건전변성Si-Si강건.규망락결구발생이예,사결구유무서향유서전변,종이능구강저정화온도여퇴화시간.
