四川大学学报（自然科学版）
四川大學學報（自然科學版）
사천대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF SICHUAN UNIVERSITY（NATURAL SCIENCE EDITION）
2012年
1期
163-167
,共5页
刘春海%尹旭%安竹%宋忠孝%汪渊
劉春海%尹旭%安竹%宋忠孝%汪淵
류춘해%윤욱%안죽%송충효%왕연
扩散阻挡层%电阻率%热稳定性%微结构
擴散阻擋層%電阻率%熱穩定性%微結構
확산조당층%전조솔%열은정성%미결구
本文提出了一种梯度氮化法制备出低阻、高稳定性的α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层,该方法有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率.用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构的表征.分析结果表明,梯度氮化工艺能调控金属Ta膜的相结构,从而获得低阻α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层结构.高温老化退火的实验结果进一步证明此结构具有高的热稳定性,失效温度高达800℃.
本文提齣瞭一種梯度氮化法製備齣低阻、高穩定性的α-Ta(N)/TaN雙層Cu擴散阻擋層,該方法有效地避免瞭異質元素的引入和高N含量導緻的高電阻率.用四點探針(FPP)、X射線衍射(XRD)、場髮射掃描電子顯微鏡(FESEM)進行薄膜電性能和微結構的錶徵.分析結果錶明,梯度氮化工藝能調控金屬Ta膜的相結構,從而穫得低阻α-Ta(N)/TaN雙層Cu擴散阻擋層結構.高溫老化退火的實驗結果進一步證明此結構具有高的熱穩定性,失效溫度高達800℃.
본문제출료일충제도담화법제비출저조、고은정성적α-Ta(N)/TaN쌍층Cu확산조당층,해방법유효지피면료이질원소적인입화고N함량도치적고전조솔.용사점탐침(FPP)、X사선연사(XRD)、장발사소묘전자현미경(FESEM)진행박막전성능화미결구적표정.분석결과표명,제도담화공예능조공금속Ta막적상결구,종이획득저조α-Ta(N)/TaN쌍층Cu확산조당층결구.고온노화퇴화적실험결과진일보증명차결구구유고적열은정성,실효온도고체800℃.
