材料科学与工程学报
材料科學與工程學報
재료과학여공정학보
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
2005年
1期
45-47
,共3页
PLD技术%Ti50Ni36Cu14%合金薄膜%成分均匀性
PLD技術%Ti50Ni36Cu14%閤金薄膜%成分均勻性
PLD기술%Ti50Ni36Cu14%합금박막%성분균균성
采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Ti50Ni36Cu14合金薄膜.研究表明,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片/靶间距)、激光脉冲频率有较大关系.当沉积距离(D)为20～30mm时,可获得成分均匀稳定的合金薄膜;当其它条件相同,激光脉冲频率(F)为5Hz时,合金薄膜与靶成分更为接近.采用PLD技术制备的Ti50Ni36Cu14合金薄膜成分均匀性较好,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体.采用本工艺获得的Ti50Ni36Cu14薄膜的平均成分为47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni和13.57 at.%Cu.
採用脈遲激光沉積(PLD)技術製備瞭Ti50Ni36Cu14閤金薄膜.研究錶明,PLD閤金薄膜的成分與沉積距離(基片/靶間距)、激光脈遲頻率有較大關繫.噹沉積距離(D)為20～30mm時,可穫得成分均勻穩定的閤金薄膜;噹其它條件相同,激光脈遲頻率(F)為5Hz時,閤金薄膜與靶成分更為接近.採用PLD技術製備的Ti50Ni36Cu14閤金薄膜成分均勻性較好,同時與磁控濺射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶體.採用本工藝穫得的Ti50Ni36Cu14薄膜的平均成分為47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni和13.57 at.%Cu.
채용맥충격광침적(PLD)기술제비료Ti50Ni36Cu14합금박막.연구표명,PLD합금박막적성분여침적거리(기편/파간거)、격광맥충빈솔유교대관계.당침적거리(D)위20～30mm시,가획득성분균균은정적합금박막;당기타조건상동,격광맥충빈솔(F)위5Hz시,합금박막여파성분경위접근.채용PLD기술제비적Ti50Ni36Cu14합금박막성분균균성교호,동시여자공천사박막상비PLD박막적평균성분경가접근파체.채용본공예획득적Ti50Ni36Cu14박막적평균성분위47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni화13.57 at.%Cu.
