中国粉体技术
中國粉體技術
중국분체기술
CHINA POWDER SCIENCE AND TECHNOLOGY
2005年
6期
14-16
,共3页
颗粒%粒度%光散射%Mie理论
顆粒%粒度%光散射%Mie理論
과립%립도%광산사%Mie이론
测量下限是光散射颗粒测试技术的关键问题.本文通过理论分析、比较归一化散射光强的分布图和构造方差函数F(d)对颗粒散射光的光强分布进行了定性和定量的讨论,对Mie散射向Rayleigh 散射趋近的情况进行了分析,讨论了散射光光强大小的分布,分析了测量不同粒径的颗粒的可行性,最终得到在入射光源是波长为0.6328μm的He-Ne激光器的情况下,当粒径d取200nm以上时,不同粒径颗粒的Mie散射光强分布有较大差别,适合用静态光散射的方法来判断颗粒粒径.
測量下限是光散射顆粒測試技術的關鍵問題.本文通過理論分析、比較歸一化散射光彊的分佈圖和構造方差函數F(d)對顆粒散射光的光彊分佈進行瞭定性和定量的討論,對Mie散射嚮Rayleigh 散射趨近的情況進行瞭分析,討論瞭散射光光彊大小的分佈,分析瞭測量不同粒徑的顆粒的可行性,最終得到在入射光源是波長為0.6328μm的He-Ne激光器的情況下,噹粒徑d取200nm以上時,不同粒徑顆粒的Mie散射光彊分佈有較大差彆,適閤用靜態光散射的方法來判斷顆粒粒徑.
측량하한시광산사과립측시기술적관건문제.본문통과이론분석、비교귀일화산사광강적분포도화구조방차함수F(d)대과립산사광적광강분포진행료정성화정량적토론,대Mie산사향Rayleigh 산사추근적정황진행료분석,토론료산사광광강대소적분포,분석료측량불동립경적과립적가행성,최종득도재입사광원시파장위0.6328μm적He-Ne격광기적정황하,당립경d취200nm이상시,불동립경과립적Mie산사광강분포유교대차별,괄합용정태광산사적방법래판단과립립경.
