电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2011年
1期
30-34
,共5页
曹浪%左正忠%田志斌%詹益腾
曹浪%左正忠%田誌斌%詹益騰
조랑%좌정충%전지빈%첨익등
电镀%锌-镍合金%焦磷酸盐%柠檬酸盐
電鍍%鋅-鎳閤金%焦燐痠鹽%檸檬痠鹽
전도%자-얼합금%초린산염%저몽산염
介绍了一种电镀光亮Zn-Ni合金的新工艺.应用赫尔槽试验、小槽电镀、扫描电子显微镜等方法,研究了溶液中ρ(Ni2+)/ρ(Zn2+)、温度、pH、阴极电流密度等对合金镀层中含Ni量的影响.其溶液组成是:100～120g/L焦磷酸钾,45～55g/l柠檬酸钠,25～35g/L ZnSO4.7H2O,35～45g/L NiSO4.6H2O, 0.2～0.4g/L 添加剂 A, 0.1～0.2g/L添加剂 B.实验结果表明, 在θ=10～35℃, pH=8～10,Jκ=0.5～5A/dm2 条件下,可得到w(Ni)为12%～18%的光亮的、耐蚀性能好的Zn-Ni合金镀层.
介紹瞭一種電鍍光亮Zn-Ni閤金的新工藝.應用赫爾槽試驗、小槽電鍍、掃描電子顯微鏡等方法,研究瞭溶液中ρ(Ni2+)/ρ(Zn2+)、溫度、pH、陰極電流密度等對閤金鍍層中含Ni量的影響.其溶液組成是:100～120g/L焦燐痠鉀,45～55g/l檸檬痠鈉,25～35g/L ZnSO4.7H2O,35～45g/L NiSO4.6H2O, 0.2～0.4g/L 添加劑 A, 0.1～0.2g/L添加劑 B.實驗結果錶明, 在θ=10～35℃, pH=8～10,Jκ=0.5～5A/dm2 條件下,可得到w(Ni)為12%～18%的光亮的、耐蝕性能好的Zn-Ni閤金鍍層.
개소료일충전도광량Zn-Ni합금적신공예.응용혁이조시험、소조전도、소묘전자현미경등방법,연구료용액중ρ(Ni2+)/ρ(Zn2+)、온도、pH、음겁전류밀도등대합금도층중함Ni량적영향.기용액조성시:100～120g/L초린산갑,45～55g/l저몽산납,25～35g/L ZnSO4.7H2O,35～45g/L NiSO4.6H2O, 0.2～0.4g/L 첨가제 A, 0.1～0.2g/L첨가제 B.실험결과표명, 재θ=10～35℃, pH=8～10,Jκ=0.5～5A/dm2 조건하,가득도w(Ni)위12%～18%적광량적、내식성능호적Zn-Ni합금도층.
