玻璃
玻璃
파리
GLASS
2011年
9期
29-36
,共8页
磁控溅射%镍铬膜%部分氧化%气体流量%阴极电压
磁控濺射%鎳鉻膜%部分氧化%氣體流量%陰極電壓
자공천사%얼락막%부분양화%기체류량%음겁전압
magnetron sputtering%nickel chromium film%partial oxidation%gas flow rate%cathode voltage
通过对磁控溅射部分氧化镍铬膜工艺的研究,指出在不同工艺气体流量下,在不同溅射功率下,如何稳定控制部分氧化镍铬膜的生产。
通過對磁控濺射部分氧化鎳鉻膜工藝的研究,指齣在不同工藝氣體流量下,在不同濺射功率下,如何穩定控製部分氧化鎳鉻膜的生產。
통과대자공천사부분양화얼락막공예적연구,지출재불동공예기체류량하,재불동천사공솔하,여하은정공제부분양화얼락막적생산。
In this article various steady production ways of nickel chromium partial oxidation film was described for various conditions, such as different gas-flow rate and different sputtering power.
