退火对非晶态碲镉汞薄膜微结构和光敏性的影响
퇴화대비정태제력홍박막미결구화광민성적영향
The Effect of Annealing on the Microstructure and Photosensitivity of Amorphous MCT Films
  • 万方数据
    红外技术 홍외기술
    INFRARED TECHNOLOGY
    2010年 5期 255-258 ,共4页

    李雄军%孔金丞%王光华%余连杰%孔令德%杨丽丽%邱锋%李悰%姬荣斌

    리웅군%공금승%왕광화%여련걸%공령덕%양려려%구봉%리종%희영빈

    非晶态碲镉汞 (a-MCT)%退火%双体相关函数%光敏性 非晶態碲鎘汞 (a-MCT)%退火%雙體相關函數%光敏性
    비정태제력홍 (a-MCT)%퇴화%쌍체상관함수%광민성
    对射频磁控溅射生长的非晶态碲镉汞(a-MCT)薄膜在真空状态下进行退火,并通过X射线衍射(XRD)技术指出原生及低于125℃退火后的MCT薄膜均为非晶态.采用双体相关函数g(r)和电学测试系统研究了退火对a-MCT薄膜微结构和光敏性的影响.结果表明:经110℃,115℃和120℃退火后的a-MCT薄膜短程有序畴Rs由退火前的13.9 分别增大至17.9 、20.8 和26.2 ;光敏性则由原来的1.17,分别增加至退火后的2.01、2.67和4.25.
    대사빈자공천사생장적비정태제력홍(a-MCT)박막재진공상태하진행퇴화,병통과X사선연사(XRD)기술지출원생급저우125℃퇴화후적MCT박막균위비정태.채용쌍체상관함수g(r)화전학측시계통연구료퇴화대a-MCT박막미결구화광민성적영향.결과표명:경110℃,115℃화120℃퇴화후적a-MCT박막단정유서주Rs유퇴화전적13.9 분별증대지17.9 、20.8 화26.2 ;광민성칙유원래적1.17,분별증가지퇴화후적2.01、2.67화4.25.
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