电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2011年
10期
19-23
,共5页
微机电系统%化学机械抛光%多晶硅表面
微機電繫統%化學機械拋光%多晶硅錶麵
미궤전계통%화학궤계포광%다정규표면
CMP（Chemical Mechanical Polishing）%MEMS（Micro electro mechanical system）%Polysilicon surface
CMP在MEMS的多晶硅表面的微机械加工过程中起着至关重要的作用。为了更详细的了解CMP在MEMS加工中的应用,从MEMS的发展,工艺流程、CMP在MEMS制造中的不足以及我国CMP在MEMS制造中的发展现状等方面进行了论述。
CMP在MEMS的多晶硅錶麵的微機械加工過程中起著至關重要的作用。為瞭更詳細的瞭解CMP在MEMS加工中的應用,從MEMS的髮展,工藝流程、CMP在MEMS製造中的不足以及我國CMP在MEMS製造中的髮展現狀等方麵進行瞭論述。
CMP재MEMS적다정규표면적미궤계가공과정중기착지관중요적작용。위료경상세적료해CMP재MEMS가공중적응용,종MEMS적발전,공예류정、CMP재MEMS제조중적불족이급아국CMP재MEMS제조중적발전현상등방면진행료논술。
CMP plays integral role in polysilicon surface micromachine of the MEMS.This article describes the MEMS＇ development trend,recipe process,scarcity of the CMP used and applying state in the MEMS.
