氟化非晶碳膜的光学带隙和伏安特性
불화비정탄막적광학대극화복안특성
The optical gap and I-V characteristic of a-C: F thin film
  • 万方数据
    功能材料 공능재료
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
    2002年 3期 283-285 ,共3页

    黄峰%康健%杨慎东%叶超%程珊华%宁兆元%甘肇强

    황봉%강건%양신동%협초%정산화%저조원%감조강

    a-C:F薄膜%MWECR-CVD%光学带隙%J-V特性 a-C:F薄膜%MWECR-CVD%光學帶隙%J-V特性
    a-C:F박막%MWECR-CVD%광학대극%J-V특성
    用苯(C6H6)和三氟甲烷(CHF3)混合气体作源气体,采用永磁微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积(MWECRCVD)技术,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).光学带隙的结果表明它与膜中的C、F元素含量和键结构都有关系;伏安特性的测量表明a-C:F薄膜的电导在低电场下呈欧姆特性,高电场下则是肖特基发射机制.
    용분(C6H6)화삼불갑완(CHF3)혼합기체작원기체,채용영자미파전자회선공진등리자체화학기상침적(MWECRCVD)기술,제비료불화비정탄막(a-C:F).광학대극적결과표명타여막중적C、F원소함량화건결구도유관계;복안특성적측량표명a-C:F박막적전도재저전장하정구모특성,고전장하칙시초특기발사궤제.
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