光电子·激光
光電子·激光
광전자·격광
JOURNAL OF OPTOECTRONICS·LASER
2001年
11期
1202-1203
,共2页
光刻机%分辨率%对准
光刻機%分辨率%對準
광각궤%분변솔%대준
本文以PLA-501F光刻机为例,研究如何使光刻机的分辨率和对准精度得到充分发挥.指出了光源、光刻胶、滤光片和主物镜的相互匹配是充分发挥光刻机分辨率的关键问题;在提高光刻工件的对准精度方面,牵涉到母板的套准图形设计及对准时的技巧.本文还分析了接近式曝光和接触式曝光的主要优缺点.
本文以PLA-501F光刻機為例,研究如何使光刻機的分辨率和對準精度得到充分髮揮.指齣瞭光源、光刻膠、濾光片和主物鏡的相互匹配是充分髮揮光刻機分辨率的關鍵問題;在提高光刻工件的對準精度方麵,牽涉到母闆的套準圖形設計及對準時的技巧.本文還分析瞭接近式曝光和接觸式曝光的主要優缺點.
본문이PLA-501F광각궤위례,연구여하사광각궤적분변솔화대준정도득도충분발휘.지출료광원、광각효、려광편화주물경적상호필배시충분발휘광각궤분변솔적관건문제;재제고광각공건적대준정도방면,견섭도모판적투준도형설계급대준시적기교.본문환분석료접근식폭광화접촉식폭광적주요우결점.
