科学技术与工程
科學技術與工程
과학기술여공정
SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
2008年
7期
1741-1747
,共7页
崔传文%石锋%李玉国%张月甫%张敬尧
崔傳文%石鋒%李玉國%張月甫%張敬堯
최전문%석봉%리옥국%장월보%장경요
RF磁控溅射%微波介质陶瓷薄膜%影响因素
RF磁控濺射%微波介質陶瓷薄膜%影響因素
RF자공천사%미파개질도자박막%영향인소
RF磁控溅射是目前应用最广泛的一种溅射沉积方法.由于陶瓷溅射的现象相当复杂,目前尚无完整的溅射理论可以用来分析溅射现象,所以通常通过实验来确定溅射过程中的影响因素.综述了RF磁控溅射陶瓷薄膜过程中的影响因素,阐述了微波介质陶瓷薄膜的应用前景,并指出了今后的发展方向.
RF磁控濺射是目前應用最廣汎的一種濺射沉積方法.由于陶瓷濺射的現象相噹複雜,目前尚無完整的濺射理論可以用來分析濺射現象,所以通常通過實驗來確定濺射過程中的影響因素.綜述瞭RF磁控濺射陶瓷薄膜過程中的影響因素,闡述瞭微波介質陶瓷薄膜的應用前景,併指齣瞭今後的髮展方嚮.
RF자공천사시목전응용최엄범적일충천사침적방법.유우도자천사적현상상당복잡,목전상무완정적천사이론가이용래분석천사현상,소이통상통과실험래학정천사과정중적영향인소.종술료RF자공천사도자박막과정중적영향인소,천술료미파개질도자박막적응용전경,병지출료금후적발전방향.