离子束辅助沉积铪膜抑制栅电子发射性能研究
리자속보조침적협막억제책전자발사성능연구
Electron emission suppression characteristic of molybdenum grid coated with Hf by ion beam assisted deposition
  • 万方数据
    功能材料 공능재료
    JOURNAL OF FUNCTIONAL MATERIALS
    2005年 11期 1673-1675 ,共3页

    蒋军%江炳尧%郑志宏%任琮欣%冯涛%王曦%柳襄怀%邹世昌

    장군%강병요%정지굉%임종흔%풍도%왕희%류양부%추세창

    抑制电子发射%铪%离子束辅助沉积%钼栅极 抑製電子髮射%鉿%離子束輔助沉積%鉬柵極
    억제전자발사%협%리자속보조침적%목책겁
    利用离子束辅助沉积(IBAD)方法在Mo栅极表面沉积铪膜,采用模拟二极管方法测量和比较阴极活性物质Ba、BaO蒸发在镀铪和纯钼栅极表面的电子发射性能.实验结果表明,镀铪栅极抑制电子发射性能较好,并初步探讨了离子束辅助沉积铪膜抑制栅电子发射的机理.
    이용리자속보조침적(IBAD)방법재Mo책겁표면침적협막,채용모의이겁관방법측량화비교음겁활성물질Ba、BaO증발재도협화순목책겁표면적전자발사성능.실험결과표명,도협책겁억제전자발사성능교호,병초보탐토료리자속보조침적협막억제책전자발사적궤리.
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