光电子·激光
光電子·激光
광전자·격광
JOURNAL OF OPTOECTRONICS·LASER
2004年
5期
549-553
,共5页
张晓松%李岚%邹开顺%陶怡
張曉鬆%李嵐%鄒開順%陶怡
장효송%리람%추개순%도이
Y2O3:Eu薄膜%电子束蒸发%场发射显示器(FED)%退火处理
Y2O3:Eu薄膜%電子束蒸髮%場髮射顯示器(FED)%退火處理
Y2O3:Eu박막%전자속증발%장발사현시기(FED)%퇴화처리
用电子束蒸发方法在ITO基片上生长Y2O3:Eu荧光薄膜,并在不同条件下退火处理.分别用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(KPS)、扫描电子显微镜(SEM)和光致发光(PL)谱表征Y2O3:Eu荧光薄膜的结构、成分、形貌和发光性能.实验表明:随着温度升高,薄膜的结晶程度提高,弥补了薄膜晶体表面的表面缺陷,提高了薄膜的发光性能;600 ℃退火处理的光致发光中,617 nm和596 nm的谱线最强.
用電子束蒸髮方法在ITO基片上生長Y2O3:Eu熒光薄膜,併在不同條件下退火處理.分彆用X射線衍射(XRD)、X射線光電子能譜(KPS)、掃描電子顯微鏡(SEM)和光緻髮光(PL)譜錶徵Y2O3:Eu熒光薄膜的結構、成分、形貌和髮光性能.實驗錶明:隨著溫度升高,薄膜的結晶程度提高,瀰補瞭薄膜晶體錶麵的錶麵缺陷,提高瞭薄膜的髮光性能;600 ℃退火處理的光緻髮光中,617 nm和596 nm的譜線最彊.
용전자속증발방법재ITO기편상생장Y2O3:Eu형광박막,병재불동조건하퇴화처리.분별용X사선연사(XRD)、X사선광전자능보(KPS)、소묘전자현미경(SEM)화광치발광(PL)보표정Y2O3:Eu형광박막적결구、성분、형모화발광성능.실험표명:수착온도승고,박막적결정정도제고,미보료박막정체표면적표면결함,제고료박막적발광성능;600 ℃퇴화처리적광치발광중,617 nm화596 nm적보선최강.
