热处理对MgO基片的表面形貌以及对CeO2和Tl-2212薄膜生长的影响
열처리대MgO기편적표면형모이급대CeO2화Tl-2212박막생장적영향
Effects of annealing treatments of MgO substrates on its surface morphology and the growth of CeO2 and Tl-2212 superconducting films
  • 万方数据
    低温与超导 저온여초도
    CRYOGENICS AND SUPERCONDUCTIVITY
    2008年 4期 1-4,7 ,共5页

    谢清连%阎少林%方兰%赵新杰%游石头%张旭%左涛%周铁戈%季鲁%何明%岳宏卫%王争%李加蕾%张玉婷

    사청련%염소림%방란%조신걸%유석두%장욱%좌도%주철과%계로%하명%악굉위%왕쟁%리가뢰%장옥정

    Tl-2212超导薄膜%MgO%缓冲层 Tl-2212超導薄膜%MgO%緩遲層
    Tl-2212초도박막%MgO%완충층
    研究了MgO基片在高温退火时表面形貌和表面结构的变化,以及它对CeO2缓冲层和Tl-2212超导薄膜生长的影响.原子力显微镜(AFM)研究表明,在流动氧环境中1100℃温度下退火,MgO的表面首先由未退火时的皱褶形貌,演化为光滑表面,随着退火时间的延长,表面形貌最终演化为具有光滑基底的独立生长峰结构.XRD测试表明,通过高温热处理可以大幅度提高MgO基片表面结晶的完整性.在1100℃温度下热处理8小时的MgO基片上可以生长出具有高度c轴取向的CeO2(001)缓冲层.然后在此缓冲层上制备了厚度为500nm的外延Tl-2212超导薄膜,其临界转变温度(Tc)达到108.6K,液氮温度下临界电流密度(Jc)为2.8mA/cm2,微波表面电阻Rs(77K,10GHz)约为360.9μΩ.
    연구료MgO기편재고온퇴화시표면형모화표면결구적변화,이급타대CeO2완충층화Tl-2212초도박막생장적영향.원자력현미경(AFM)연구표명,재류동양배경중1100℃온도하퇴화,MgO적표면수선유미퇴화시적추습형모,연화위광활표면,수착퇴화시간적연장,표면형모최종연화위구유광활기저적독립생장봉결구.XRD측시표명,통과고온열처리가이대폭도제고MgO기편표면결정적완정성.재1100℃온도하열처리8소시적MgO기편상가이생장출구유고도c축취향적CeO2(001)완충층.연후재차완충층상제비료후도위500nm적외연Tl-2212초도박막,기림계전변온도(Tc)체도108.6K,액담온도하림계전류밀도(Jc)위2.8mA/cm2,미파표면전조Rs(77K,10GHz)약위360.9μΩ.
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