发光学报
髮光學報
발광학보
CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
2009年
1期
55-58
,共4页
武春红%张靖磊%刘彭义%侯林涛
武春紅%張靖磊%劉彭義%侯林濤
무춘홍%장정뢰%류팽의%후림도
有机发光二极管%LiF修饰层%空穴缓冲
有機髮光二極管%LiF脩飾層%空穴緩遲
유궤발광이겁관%LiF수식층%공혈완충
使用真空热蒸发镀膜法,在OLED层状结构中引入不同厚度的LiF作阳极修饰层,制备了结构为ITO/LiF/TPD/Alq3/Al的器件.LiF超薄层的引入较好地修饰了ITO表面,减少了阳极和有机层界面缺陷态的形成,增强了器件的稳定性.实验结果表明:LiF层有效地阻挡空穴注入,增强载流子注入平衡,提高了器件的亮度和效率,含有1 nm厚LiF空穴缓冲层器件的性能最好,效率较不含缓冲层器件提高了近1.5倍.
使用真空熱蒸髮鍍膜法,在OLED層狀結構中引入不同厚度的LiF作暘極脩飾層,製備瞭結構為ITO/LiF/TPD/Alq3/Al的器件.LiF超薄層的引入較好地脩飾瞭ITO錶麵,減少瞭暘極和有機層界麵缺陷態的形成,增彊瞭器件的穩定性.實驗結果錶明:LiF層有效地阻擋空穴註入,增彊載流子註入平衡,提高瞭器件的亮度和效率,含有1 nm厚LiF空穴緩遲層器件的性能最好,效率較不含緩遲層器件提高瞭近1.5倍.
사용진공열증발도막법,재OLED층상결구중인입불동후도적LiF작양겁수식층,제비료결구위ITO/LiF/TPD/Alq3/Al적기건.LiF초박층적인입교호지수식료ITO표면,감소료양겁화유궤층계면결함태적형성,증강료기건적은정성.실험결과표명:LiF층유효지조당공혈주입,증강재류자주입평형,제고료기건적량도화효솔,함유1 nm후LiF공혈완충층기건적성능최호,효솔교불함완충층기건제고료근1.5배.
