RF磁控溅射技术制备TiO2-xNx薄膜及组成和结构研究
RF자공천사기술제비TiO2-xNx박막급조성화결구연구
Compositional and structural properties of TiO2-xNx thin films deposited by RF magnetron sputtering
  • 万方数据
    东北师大学报（自然科学版） 동북사대학보（자연과학판）
    JOURNAL OF NORTHEAST NORMAL UNIVERSITY(NATURAL SCIENCE EDITION)
    2005年 1期 50-53 ,共4页

    景士伟%刘益春%梁宇%马健钢%吕有明%申德振%张吉英%范希武

    경사위%류익춘%량우%마건강%려유명%신덕진%장길영%범희무

    TiO2-xNx%XRD%XPS%吸收光谱%可见光 TiO2-xNx%XRD%XPS%吸收光譜%可見光
    TiO2-xNx%XRD%XPS%흡수광보%가견광
    利用RF磁控溅射技术(Ar,N2和O2混合气体,Ti金属靶)制备TiO 2-xNx薄膜.用XRD和XPS对其结构和组成进行表征,结果表明:在实验系统中的N2含量在13%～17%之间,可以得到高质量的TiO 2-xNx薄膜,β-N为 TiO 2-xNx薄膜的主要成分;不同含N量的TiO 2-xNx薄膜的结构和组成的光学催化活性不同.
    이용RF자공천사기술(Ar,N2화O2혼합기체,Ti금속파)제비TiO 2-xNx박막.용XRD화XPS대기결구화조성진행표정,결과표명:재실험계통중적N2함량재13%～17%지간,가이득도고질량적TiO 2-xNx박막,β-N위 TiO 2-xNx박막적주요성분;불동함N량적TiO 2-xNx박막적결구화조성적광학최화활성불동.
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