真空电子技术
真空電子技術
진공전자기술
VACUUM ELECTRONICS
2009年
3期
30-36
,共7页
邓婷%黄光周%刘雄英%朱建明%戴晋福
鄧婷%黃光週%劉雄英%硃建明%戴晉福
산정%황광주%류웅영%주건명%대진복
高反膜%反射率%制备工艺%损伤阈值
高反膜%反射率%製備工藝%損傷閾值
고반막%반사솔%제비공예%손상역치
叙述了近几年国内外的研究进展,包括高反膜几种不同的制备工艺,如电子束蒸发沉积、离子束辅助沉积、离子束溅射沉积和溶胶-凝胶沉积法等,分析了各种制备方法及工艺的特点;针对高反膜的抗激光损伤阈值低从而影响激光器输出功率的问题,讨论了提高损伤阈值的途径;最后归纳了各种制备工艺的优缺点,并探讨了进一步提高薄膜反射率的可能性.
敘述瞭近幾年國內外的研究進展,包括高反膜幾種不同的製備工藝,如電子束蒸髮沉積、離子束輔助沉積、離子束濺射沉積和溶膠-凝膠沉積法等,分析瞭各種製備方法及工藝的特點;針對高反膜的抗激光損傷閾值低從而影響激光器輸齣功率的問題,討論瞭提高損傷閾值的途徑;最後歸納瞭各種製備工藝的優缺點,併探討瞭進一步提高薄膜反射率的可能性.
서술료근궤년국내외적연구진전,포괄고반막궤충불동적제비공예,여전자속증발침적、리자속보조침적、리자속천사침적화용효-응효침적법등,분석료각충제비방법급공예적특점;침대고반막적항격광손상역치저종이영향격광기수출공솔적문제,토론료제고손상역치적도경;최후귀납료각충제비공예적우결점,병탐토료진일보제고박막반사솔적가능성.
