兵器材料科学与工程
兵器材料科學與工程
병기재료과학여공정
Ordnance Material Science and Engineering
2011年
2期
73-76
,共4页
梁柔%徐雪波%鲍明东%江利
樑柔%徐雪波%鮑明東%江利
량유%서설파%포명동%강리
CrN薄膜%粒子轰击能量%薄膜生长方式%择优取向
CrN薄膜%粒子轟擊能量%薄膜生長方式%擇優取嚮
CrN박막%입자굉격능량%박막생장방식%택우취향
用闭合场非平衡磁控溅射离子镀(CFUBMIP)系统沉积制备CrN硬质薄膜,通过调节偏压改变薄膜沉积过程中离子轰击能量.采用XRD分析薄膜的相结构,结合SEM和AFM对薄膜表面形貌和截面结构的观察,探讨离子轰击能量对CrN硬质薄膜生长方式以及取向的影响规律.结果表明,随着偏压从-60 V增大到-90 V,薄膜始终由CrN单相组成,且均呈柱状生长,但生长择优取向从(200)向(111)转变.偏压的变化主要通过改变离子轰击能量影响薄膜的生长机制,低偏压时以表面能主导,因此呈(200)择优取向生长,而高偏压时以应变诱导生长机制为主,呈(111)择优取向生长.
用閉閤場非平衡磁控濺射離子鍍(CFUBMIP)繫統沉積製備CrN硬質薄膜,通過調節偏壓改變薄膜沉積過程中離子轟擊能量.採用XRD分析薄膜的相結構,結閤SEM和AFM對薄膜錶麵形貌和截麵結構的觀察,探討離子轟擊能量對CrN硬質薄膜生長方式以及取嚮的影響規律.結果錶明,隨著偏壓從-60 V增大到-90 V,薄膜始終由CrN單相組成,且均呈柱狀生長,但生長擇優取嚮從(200)嚮(111)轉變.偏壓的變化主要通過改變離子轟擊能量影響薄膜的生長機製,低偏壓時以錶麵能主導,因此呈(200)擇優取嚮生長,而高偏壓時以應變誘導生長機製為主,呈(111)擇優取嚮生長.
용폐합장비평형자공천사리자도(CFUBMIP)계통침적제비CrN경질박막,통과조절편압개변박막침적과정중리자굉격능량.채용XRD분석박막적상결구,결합SEM화AFM대박막표면형모화절면결구적관찰,탐토리자굉격능량대CrN경질박막생장방식이급취향적영향규률.결과표명,수착편압종-60 V증대도-90 V,박막시종유CrN단상조성,차균정주상생장,단생장택우취향종(200)향(111)전변.편압적변화주요통과개변리자굉격능량영향박막적생장궤제,저편압시이표면능주도,인차정(200)택우취향생장,이고편압시이응변유도생장궤제위주,정(111)택우취향생장.
