真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2005年
6期
413-417,430
,共6页
陈长琦%鲁嘉%方应翠%王君%李万福%周瑞
陳長琦%魯嘉%方應翠%王君%李萬福%週瑞
진장기%로가%방응취%왕군%리만복%주서
ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜%光学性能%电子束蒸发%离子束辅助沉积技术%真空退火
ZrO2/SiO2非規整倍頻增透膜%光學性能%電子束蒸髮%離子束輔助沉積技術%真空退火
ZrO2/SiO2비규정배빈증투막%광학성능%전자속증발%리자속보조침적기술%진공퇴화
利用Macload软件对四层ZrO2/SiO2膜系进行优化设计,以β-偏硼酸钡晶体(β-BaB2O4)为基底,采用电子束蒸发方法、离子束辅助沉积技术和真空退火处理,制备出ZrO2/SiO2非规整倍频增透膜,其在波长532 nm和1064 nm处反射率小于0.35%和透射率高于90%,与软件设计膜系得到的理论值相一致.研究结果表明薄膜的填隙密度越高,致密度越好,其光学性能也越好.
利用Macload軟件對四層ZrO2/SiO2膜繫進行優化設計,以β-偏硼痠鋇晶體(β-BaB2O4)為基底,採用電子束蒸髮方法、離子束輔助沉積技術和真空退火處理,製備齣ZrO2/SiO2非規整倍頻增透膜,其在波長532 nm和1064 nm處反射率小于0.35%和透射率高于90%,與軟件設計膜繫得到的理論值相一緻.研究結果錶明薄膜的填隙密度越高,緻密度越好,其光學性能也越好.
이용Macload연건대사층ZrO2/SiO2막계진행우화설계,이β-편붕산패정체(β-BaB2O4)위기저,채용전자속증발방법、리자속보조침적기술화진공퇴화처리,제비출ZrO2/SiO2비규정배빈증투막,기재파장532 nm화1064 nm처반사솔소우0.35%화투사솔고우90%,여연건설계막계득도적이론치상일치.연구결과표명박막적전극밀도월고,치밀도월호,기광학성능야월호.
